[發(fā)明專利]用于面曝光快速成形系統(tǒng)的曝光能量均勻化方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310116990.0 | 申請日: | 2013-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN103235488A | 公開(公告)日: | 2013-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胥光申 | 申請(專利權(quán))人: | 西安工程大學 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 西安弘理專利事務所 61214 | 代理人: | 羅笛 |
| 地址: | 710048 陜*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 曝光 快速 成形 系統(tǒng) 能量 均勻 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于制造方法技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種用于面曝光快速成形系統(tǒng)的曝光能量均勻化方法。
背景技術(shù)
快速成型技術(shù)是一種先進的制造技術(shù),它采用材料累加成型的原理,根據(jù)零件的三維CAD模型,可直接制作出三維實體零件,是一種極富生命力的新技術(shù)。
面曝光快速成形技術(shù)是近年來發(fā)展起來的一種新型快速成形技術(shù),其原理是:零件的三維模型經(jīng)切層后,切層數(shù)據(jù)存儲為能生成零件截面形狀的視圖文件,由該文件驅(qū)動視圖發(fā)生器,在樹脂表面形成相應的視圖,再以該視圖作為掩模,實現(xiàn)對樹脂的選擇性固化。其優(yōu)點是:整層曝光時間短、成型速度快、成型效率高、可使用非激光光源及系統(tǒng)造價低。已授權(quán)的國家發(fā)明專利,其專利號為ZL200810150338.X,發(fā)明名稱為“基于反射型液晶光閥的光固化快速成型裝置及成型方法”公開了一種典型的面曝光快速成形技術(shù)。
用于微小零件制作的面曝光快速成形系統(tǒng)對制作精度有很高的要求。面曝光快速成形系統(tǒng)的視圖掩模平面內(nèi)光能分布直接影響了樹脂在固化平面內(nèi)的固化深度的分布。由于光學系統(tǒng)的原因,使得實際的視圖掩模平面內(nèi)光能分布不均勻,將導致樹脂在固化平面內(nèi)的固化深度的不均勻,不但會影響制件微細特征的尺寸精度,還會使樹脂在固化平面內(nèi)產(chǎn)生明顯的變形,最終使制件的精度喪失,無法滿足準確制作零件原型的要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種用于面曝光快速成形系統(tǒng)的曝光能量均勻化方法,實現(xiàn)了視圖掩模平面內(nèi)光能分布均勻化,提高了面曝光快速成形系統(tǒng)的制作精度。
本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是,用于面曝光快速成形系統(tǒng)的曝光能量均勻化方法,具體按照以下步驟實施:
步驟1、確定視圖掩模平面內(nèi)不同位置處,產(chǎn)生掩模圖形的圖片相應位置處灰度取不同值時的光輻照度分布;
步驟2、確定輻照度均勻化的目標值,根據(jù)輻照度均勻化的目標值,建立掩模圖形中測量點位置與產(chǎn)生掩模圖形的實驗圖片中相應點處灰度之間關(guān)系的數(shù)學模型;
步驟3、視圖掩模平面內(nèi)光能均勻化的實現(xiàn)。
本發(fā)明的特點還在于,
步驟1具體按照以下步驟實施:
步驟1.1、在計算機上用圖形處理的方法得到產(chǎn)生掩模圖形的圖片的灰度值;
步驟1.2、將經(jīng)步驟1.1獲取的產(chǎn)生掩模圖形的圖片的灰度值在155~255范圍內(nèi)等間隔劃分,灰度的間隔為10;
步驟1.3、經(jīng)步驟1.2處理后,確定視圖發(fā)生器生成的掩模圖形中測試點位置:
視圖發(fā)生器生成的掩模圖形中點的位置坐標以象素為單位表示,首先在測試點為(115,115)、(906,115)、(115,655)、(906,655)處分別做標記,再在這些測試點之間,按照像素值在x方向的坐標間隔為113,y方向坐標間隔為108設(shè)置測試點,總共確定48個測試點;
步驟1.4、經(jīng)步驟1.3后,對應一張灰度確定的圖片,用紫外光輻照計在掩模圖形內(nèi)對各個測試點處依次測量紫外光輻照度數(shù)據(jù)。
步驟2具體按照以下步驟實施:
步驟2.1、確定輻照度均勻化的目標值,該輻照度均勻化的目標值設(shè)定為2.0μW/cm2;
步驟2.2、利用樣條插值法計算灰度分布:
利用三次樣條插值方法、輻照度均勻化的目標值及步驟1得到的測量紫外光輻照度數(shù)據(jù)進行計算,計算出輻照度為輻照度均勻化的目標值2.0μW/cm2時視圖平面內(nèi)各個位置對應的灰度值;
步驟2.3、建立掩模圖形中測量點位置與產(chǎn)生掩模圖形的圖片中相應點處灰度之間關(guān)系的數(shù)學模型。
步驟2.3中建立的數(shù)學模型具體按照以下方法實施:
采用TableCurve3D擬合軟件,對經(jīng)步驟2.2獲取的紫外光輻照度值為2.0μW/cm2時各區(qū)域灰度值進行處理,即構(gòu)建出掩模圖形中測量點位置與產(chǎn)生掩模圖形的圖片中相應點處灰度之間關(guān)系的數(shù)學模型;
該數(shù)學模型具體如下:
gray=288.6473851+0.118520841x-0.51052905y-0.0002805x2
+0.000871941y2+0.000104805xy+2.01002×10-7x3?????????(1)
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