[發(fā)明專利]顯示裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310116559.6 | 申請日: | 2013-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN103576375A | 公開(公告)日: | 2014-02-12 |
| 發(fā)明(設計)人: | 梁廣恒;陳家弘;楊旋圣 | 申請(專利權)人: | 元太科技工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11019 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,其特征在于其包括:
主動元件陣列基板;
對向基板,相對于該主動元件陣列基板,該對向基板包括:
第一基底;以及
遮光結(jié)構(gòu),配置于該第一基底上且位于該第一基底與該主動元件陣列基板之間,該遮光結(jié)構(gòu)具有由該第一基底向該主動元件陣列基板依序堆棧的第一介電層、第二介電層、第三介電層、金屬層、第四介電層、第五介電層、第六介電層,其中該第一介電層、該第二介電層、該第三介電層的厚度彼此不同,且該第四介電層、該第五介電層、該第六介電層的厚度彼此不同;以及
顯示介質(zhì),配置于該主動元件陣列基板與該對向基板之間。
2.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于該第一介電層與該第三介電層的折射率相同,而該第二介電層與該第一介電層以及該第三介電層的折射率不同。
3.根據(jù)權利要求2所述的顯示裝置,其特征在于該第一介電層與該第三介電層的折射率小于該第二介電層的折射率。
4.根據(jù)權利要求2所述的顯示裝置,其特征在于該第一介電層與該第三介電層的折射率大于該第二介電層的折射率。
5.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于該第一介電層的厚度為D1,該第二介電層的厚度為D2,該第三介電層的厚度為D3,其中D1介于100埃至500埃,D2介于500埃至1000埃,D3介于800埃至1200埃。
6.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于該第四介電層與該第六介電層的折射率相同,而該第五介電層與該第四介電層以及該第六介電層的折射率不同。
7.根據(jù)權利要求6所述的顯示裝置,其特征在于該第四介電層與該第六介電層的折射率小于該第五介電層的折射率。
8.根據(jù)權利要求6所述的顯示裝置,其特征在于該第四介電層與該第六介電層的折射率大于該第五介電層的折射率。
9.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于該第四介電層的厚度為D4,該第五介電層的厚度為D5,該第六介電層的厚度為D6,其中D6介于100埃至500埃,D5介于500埃至1000埃,D4介于800埃至1200埃。
10.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于該第一介電層、該第二介電層、該第三介電層以該金屬層為鏡面與該第六介電層、該第五介電層、該第四介電層呈鏡面對稱。
11.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于該第一介電層與該第六介電層的折射率及厚度相同,該第二介電層與該第五介電層的折射率及厚度相同,而該第三介電層與該第四介電層的折射率及厚度相同。
12.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于該主動元件陣列基板包括:第二基底、多個主動元件以及多個像素電極,所述主動元件以及所述像素電極陣列排列于該第二基底上且位于該第二基底與該顯示介質(zhì)之間,所述主動元件與所述像素電極電性連接,其中該遮光結(jié)構(gòu)遮蔽所述主動元件而暴露出所述像素電極。
13.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于該對向基板還包括:共享電極層,配置于該顯示介質(zhì)與該遮光結(jié)構(gòu)之間。
14.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于該對向基板還包括:彩色濾光層,配置于該顯示介質(zhì)與該遮光結(jié)構(gòu)之間以及該顯示介質(zhì)與該第一基底之間。
15.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于其還包括:背光源,配置于該主動元件基板旁且適于發(fā)出光束,該光束由該主動元件基板朝向該對向基板傳遞。
16.根據(jù)權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于該金屬層的材質(zhì)為非透明金屬。
17.根據(jù)權利要求15所述的顯示裝置,其特征在于該遮光結(jié)構(gòu)對于該光束中可見光波段的反射率小于5%。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





