[發明專利]氣旋沉降裝置

有效

• 申請號: 201310113960.4
• 申請日: 2013-04-03
• 公開（公告）號: CN103223268A
• 公開（公告）日: 2013-07-31
• 發明（設計）人: 李承雨;金振昱;金俊鳳;楊璟珍;金振韓;金仁泰;林智英;鄭鐘泰;樸貞煥;樸大钖;金昌洙
• 申請（專利權）人: 大金吉歐威株式會社
• 主分類號: B01D21/26
• 分類號: B01D21/26
• 代理公司: 北京王景林知識產權代理事務所 11320
• 代理人: 王景林

1.一種氣旋沉降裝置，其包括：

圓柱罐形的主體，其包括：高速噴嘴，高速噴嘴沿主體的上外緣表面的切線方向延伸，并與主體連通，；以及位于其底主體下部的漏斗形的絮狀物去除錐體；

供水單元，其與高速噴嘴連接，包括用于混合化學物質和污水的混合器，以向主體輸送混合化學物質的污水；以及

排水單元，其包括：垂直安裝于主體中部的多孔滲水管，和；固定于多孔滲水管外緣表面并逐漸向下擴展的漏斗形多級傾斜錐體，；以及最上部的傾斜錐體，其用于將新鮮的水排到主體單元的外部，附加地其設置于多級傾斜錐體的上部，并且具有一體的側壁，從其從主體單元的下部外緣一體地向下延伸，由此最上部的傾斜錐體圍繞多級傾斜錐體的上部和側部。

2.根據權利要求1所述的氣旋沉降裝置，其中，供水單元的混合器包括順序式混合器和封閉的低速混合罐。

3.根據權利要求2所述的氣旋沉降裝置，其中，多級傾斜錐體和最上部傾斜錐體具有相同的傾斜角，該傾斜角相對于水平面呈45-60度，多級傾斜錐體包括2-10級，主體的內緣表面與最上部傾斜錐體的側壁的外緣表面之間的間隙是0.02D-0.2D（D：主體的直徑），最上部傾斜錐體的側壁的內緣表面與多級傾斜錐體的下部外緣之間的間隙是0.02D-0.2D。

4.根據權利要求3所述的氣旋沉降裝置，其中，最上部傾斜錐體的側壁的高度是0.15D?to2.5D,直徑為0.02D-0.2D的沉淀物排出孔形成于主體的多孔管的下端，由此絮狀物通過沉淀物排出孔沉降和排出。