[發明專利]一種隨液位變化自動調整位置的紫外流體處理系統

有效

• 申請號: 201310109724.5
• 申請日: 2013-04-01
• 公開（公告）號: CN103864171B
• 公開（公告）日: 2016-11-30
• 發明（設計）人: 陳健;林卉;姚向陽;王梅燕
• 申請（專利權）人: 福建新大陸環保科技有限公司
• 主分類號: C02F1/32
• 分類號: C02F1/32;A61L2/10;A23L2/50
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種隨液位變化自動調整位置的紫外流體處理系統，其安裝于水渠（1）中，其特征在于：所述紫外流體處理系統包含若干個紫外線輻射光源、與紫外線輻射光源匹配的鎮流器和電控制系統（7）以及傾斜角度控制裝置；所述紫外線輻射光源的第一端部以活動連接方式安裝于水渠底部，所述傾斜角度控制裝置與紫外線輻射光源連接用于調節紫外線輻射光源第二端部的位置，所述傾斜角度控制裝置帶動紫外線輻射光源旋轉。

2.根據權利要求1所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述紫外線輻射光源由至少一支紫外線燈管及其套管（2）組成。

3.根據權利要求1所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述紫外線輻射光源為由若干個紫外線燈管模塊（5）組成，每個紫外線燈管模塊包含至少一支紫外線燈管及其套管。

4.根據權利要求1所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述傾斜角度控制裝置為一個浮力裝置（3），所述浮力裝置（3）與紫外線輻射光源的第二端部活動連接。

5.根據權利要求1所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述傾斜角度控制裝置為一個與電控制系統電連接的傳動機構（10），所述傳動機構（10）與紫外線輻射光源傳動連接。

6.根據權利要求1所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述紫外流體處理系統還包括一個固定安裝于水渠底部的基座（9），所述紫外線輻射光源的第一端部與基座（9）活動連接，并且紫外線輻射光源的第一端部上紫外線輻射光源有效弧長以外的部分處于基座（9）內部。

7.根據權利要求1、5或6所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述系外線流體消毒系統還包含一個液位監測器（6），所述液位監測器（6）與電控制系統電連接。

8.根據權利要求1所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述傾斜角度控制裝置帶動紫外線輻射光源以其第一端部與水渠底部的連接點為圓心旋轉。

9.根據權利要求1或6所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述紫外流體處理系統還包含有限制紫外線輻射光源旋轉角度的限位裝置。

10.根據權利要求9所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述限位裝置安裝于水渠底部上方使紫外線輻射光源第二端部上升后紫外線燈管的軸線與水渠中的液面垂直處。

11.根據權利要求9所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述限位裝置位于水渠底部使所述紫外線輻射光源第二端部下降后紫外線燈管的軸線與水渠底部形成一定夾角處。

12.根據權利要求9所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述限位裝置分別位于使所述紫外線輻射光源第二端部上升后紫外線燈管的軸線與水渠中的液面垂直處以及使所述紫外線輻射光源第二端部下降后紫外線燈管的軸線與水渠底部形成一定夾角處。

13.根據權利要求9所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述限位裝置為一根橫跨水渠的桿。

14.根據權利要求9所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述限位裝置為固定安裝于水渠上的阻擋塊或擋板。

15.根據權利要求9所述的紫外流體處理系統，其特征在于：所述限位裝置為設置在浮力裝置上的彈性突起。