[發(fā)明專利]具有窄激光發(fā)射角度的多模垂直腔面發(fā)射激光器無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310109611.5 | 申請日: | 2013-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN104078843A | 公開(公告)日: | 2014-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 玉貫岳正 | 申請(專利權(quán))人: | 新科實業(yè)有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/183 | 分類號: | H01S5/183;H01S5/187 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫 |
| 地址: | 中國香港新界沙田香*** | 國省代碼: | 中國香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 激光 發(fā)射 角度 垂直 激光器 | ||
1.一種垂直腔面發(fā)射半導(dǎo)體激光器,包括一下分布式布拉格反射鏡、一上分布式布拉格反射鏡以及位于所述下分布式布拉格反射鏡和所述上分布式布拉格反射鏡之間的用以產(chǎn)生激光的活性層,所述激光從所述上分布式布拉格反射鏡發(fā)出,其特征在于:
所述上分布式布拉格反射鏡包括多個交替堆疊的高折射率層和低折射率層,其中一個所述高折射率層為設(shè)于所述上分布式布拉格反射鏡的激光發(fā)射面上的上高折射率層,所述上高折射率層具有一中心區(qū)及一邊緣區(qū),所述中心區(qū)包括位于所述上高折射率層上的一凸點,所述凸點通過所述活性層的中點沿所述上分布式布拉格反射鏡的層體層疊方向向所述上分布式布拉格反射鏡突出而形成,所述邊緣區(qū)環(huán)繞所述中心區(qū),所述中心區(qū)具有相對所述邊緣區(qū)向所述激光發(fā)射的方向突出的一凸起,
其中,所述垂直腔面發(fā)射半導(dǎo)體激光器滿足下列關(guān)系式:
dp×n=(1/4+N/2)×λ,及
dc×n=dp×n+(1/4+M/2)×λ,
其中,
λ為真空中所述激光的波長;
dc為所述上高折射率層的中心區(qū)的膜厚度;
dp為所述上高折射率層的邊緣區(qū)的膜厚度;
n為所述上高折射率層的折射率;及
N、M為零或自然數(shù)。
2.如權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射半導(dǎo)體激光器,其特征在于:所述邊緣區(qū)的dp×n為(1/4)λ,所述中心區(qū)的dc×n為(1/2)λ或λ。
3.如權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射半導(dǎo)體激光器,其特征在于:所述上分布式布拉格反射鏡在面向所述活性層的一端面上設(shè)有一限流層,所述限流層包括用以限制產(chǎn)生所述激光的驅(qū)動電流的路徑的一導(dǎo)電圓孔,所述中心區(qū)的直徑為所述導(dǎo)電圓孔的直徑的60%~120%。
4.如權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射半導(dǎo)體激光器,其特征在于:還包括覆蓋所述上分布式布拉格反射鏡的一保護膜,所述保護膜具有恒定的膜厚度。
5.如權(quán)利要求4所述的垂直腔面發(fā)射半導(dǎo)體激光器,其特征在于:所述保護膜的膜厚度與所述保護膜的折射率的乘積為(1/2)λ。
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