[發(fā)明專利]一種渦旋壓縮機(jī)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310109313.6
• 申請日: 2013-03-29
• 公開（公告）號: CN104074752A
• 公開（公告）日: 2014-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李冬元;許甲巋;單彩俠;康小麗;馬英超
• 申請（專利權(quán)）人: 珠海格力電器股份有限公司
• 主分類號: F04C18/02
• 分類號: F04C18/02;F04C29/00;F04C29/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種靜渦旋盤組件，包括：

靜渦旋盤，所述靜渦旋盤具有靜盤第一表面、靜盤第二表面和從所述靜盤第一表面延伸到所述靜盤第二表面的第一中間通路，所述靜盤第一表面還設(shè)置有第二中間通路，所述第一中間通路與所述第二中間通路連通；

蓋板，所述蓋板具有蓋板第一表面，所述蓋板第一表面覆蓋在所述靜盤第一表面上，所述蓋板還設(shè)置有蓋板補(bǔ)氣孔，所述蓋板補(bǔ)氣孔與所述第二中間通路連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜渦旋盤組件，其特征在于，所述靜盤第一表面設(shè)置有環(huán)形凹槽，所述環(huán)形凹槽中設(shè)置有密封件。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靜渦旋盤組件，其特征在于，所述環(huán)形凹槽包括第一環(huán)形凹槽和第二環(huán)形凹槽，所述第二中間通路設(shè)置在所述第一環(huán)形凹槽和所述第二環(huán)形凹槽之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜渦旋盤組件，其特征在于，所述蓋板具有蓋板第二表面，所述蓋板第二表面設(shè)置有阻擋壓縮機(jī)閥片的阻擋裝置。

5.一種渦旋壓縮機(jī)，包括權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的靜渦旋盤組件，其特征在于，還包括中間補(bǔ)氣管，所述中間補(bǔ)氣管一端與所述蓋板補(bǔ)氣孔連通，另一端與補(bǔ)氣源連通。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的渦旋壓縮機(jī)，其特征在于，還包括防回流裝置，所述防回流裝置一端與所述中間補(bǔ)氣管連通，另一端與所述蓋板補(bǔ)氣孔連通。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的渦旋壓縮機(jī)，其特征在于，所述防回流裝置包括筒體，所述筒體一端開設(shè)有回流孔，所述筒體內(nèi)設(shè)有彈性部件及封堵部件，所述封堵部件可選擇的封堵或者打開所述回流孔。

8.一種靜渦旋盤組件，包括：

靜渦旋盤，所述靜渦旋盤具有靜盤第一表面、靜盤第二表面和從所述靜盤第一表面延伸到所述靜盤第二表面的第一中間通路，所述靜盤第一表面還設(shè)置有第二中間通路，所述第一中間通路與所述第二中間通路連通；所述靜渦旋盤還包括靜盤流體通路，所述靜盤流體通路的一端與所述第二中間通路連通，另一端與靜渦旋盤外部連通；

蓋板，所述蓋板具有蓋板第一表面，所述蓋板第一表面覆蓋在所述靜盤第一表面上。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的靜渦旋盤組件，其特征在于，所述靜盤第一表面設(shè)置有環(huán)形凹槽，所述環(huán)形凹槽中設(shè)置有密封件。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的靜渦旋盤組件，其特征在于，所述環(huán)形凹槽包括第一環(huán)形凹槽和第二環(huán)形凹槽，所述第二中間通路設(shè)置在所述第一環(huán)形凹槽和所述第二環(huán)形凹槽之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的靜渦旋盤組件，其特征在于，所述蓋板具有蓋板第二表面，所述蓋板第二表面設(shè)置有阻擋壓縮機(jī)閥片的阻擋裝置。

12.一種渦旋壓縮機(jī)，包括權(quán)利要求8-11任一項(xiàng)所述的靜渦旋盤組件，其特征在于，還包括中間補(bǔ)氣管，所述中間補(bǔ)氣管一端與所述靜盤流體通路連通，另一端與補(bǔ)氣源連通。

13.一種渦旋壓縮機(jī)，包括權(quán)利要求8-11任一項(xiàng)所述的靜渦旋盤組件，其特征在于，還包括中間補(bǔ)氣管、第三流體通路，所述第三流體通路設(shè)置在渦旋壓縮機(jī)的上支架內(nèi)，所述中間補(bǔ)氣管一端與第三流體通路連通，另一端與補(bǔ)氣源連通，所述第三流體通路另一端與所述靜盤流體通路連通。