[發明專利]壓裂返排液處理后用于配液的成分調節裝置及方法

有效

• 申請號: 201310108977.0
• 申請日: 2013-03-29
• 公開（公告）號: CN103159351A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 吳萌;渠迎鋒;臺廣鋒;王永光;萬用波;陳雁南;李強
• 申請（專利權）人: 北京礦冶研究總院
• 主分類號: C02F9/06
• 分類號: C02F9/06;C02F103/10
• 代理公司: 北京凱特來知識產權代理有限公司 11260
• 代理人: 鄭立明;趙鎮勇

1.一種壓裂返排液處理后用于配液的成分調節裝置，其特征在于，包括依次連接的氧化還原調節單元、離子調節單元和酸堿度調節單元；

所述氧化還原調節單元包括電激發氧化裝置、還原反應器；

所述離子調節單元包括離子調節反應器、沉淀分離裝置；

所述酸堿度調節單元包括PH調節反應器。

2.根據權利要求1所述的壓裂返排液處理后用于配液的成分調節裝置，其特征在于，還包括自動化控制裝置、水質參數在線檢測裝置和加藥裝置，所述自動化控制裝置與所述水質參數在線檢測裝置和加藥裝置分別連接。

3.根據權利要求2所述的壓裂返排液處理后用于配液的成分調節裝置，其特征在于，所述水質參數在線檢測裝置包括ORP在線檢測儀、在線離子檢測儀和在線PH檢測儀。

4.一種權利要求1、2或3所述的壓裂返排液處理后用于配液的成分調節裝置實現壓裂返排液處理后用于配液的成分調節的方法，其特征在于，包括步驟：

A、經初步的除油、除泥和除砂處理后的壓裂返排液進入氧化還原調節單元，去除返排液中的部分有機物、降低COD、殺菌，并調節水質的ORP在-200mV～200mV之間；

B、步驟A的出水進入離子調節單元，去除水質中的高價元素，并經過絮凝沉淀分離；

C、步驟B的出水進入酸堿度調節單元，調節水質的pH值在在6.5-8.5之間。

5.根據權利要求4所述的壓裂返排液處理后用于配液的成分調節的方法，其特征在于，所述步驟A中，使用電激發氧化技術和還原技術配合使用，首先通過電激發技術產生有效氯和有效氧，發生氧化作用，然后通過還原技術，添加還原藥劑，控制出水的ORP。

6.根據權利要求5所述的壓裂返排液處理后用于配液的成分調節的方法，其特征在于，所述還原藥劑包括亞硫酸鈉、亞硫酸鉀、氯化亞鐵、硫酸亞鐵中的任一種或多種，還原藥劑用量為待處理溶液的0.1－1％質量百分含量；

所述的電激發技術參數為電流1-30A，電壓1-15V。

7.根據權利要求4所述的壓裂返排液處理后用于配液的成分調節的方法，其特征在于，所述步驟B中，通過添加碳酸鈉、碳酸鉀、氫氧化鈉和氫氧化鉀中的一種或多種化學藥劑，去除水質中的高價元素，并通過使用聚丙烯酰胺絮凝劑進行絮凝沉淀。

8.根據權利要求7所述的壓裂返排液處理后用于配液的成分調節的方法，其特征在于，所述碳酸鈉和碳酸鉀添加量為待處理溶液的0.1-2%質量百分含量，所述氫氧化鈉和氫氧化鉀添加量為待處理溶液的0.1～1%質量百分含量，所述聚丙烯酰胺絮凝劑的添加量為待處理溶液的2～20mg/l。