[發明專利]增強閥桿運動垂直度的真空EGR閥結構

無效

• 申請號: 201310108335.0
• 申請日: 2013-03-29
• 公開（公告）號: CN103174553A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 蔡春香
• 申請（專利權）人: 無錫隆盛科技股份有限公司
• 主分類號: F02M25/07
• 分類號: F02M25/07
• 代理公司: 上海海頌知識產權代理事務所(普通合伙) 31258
• 代理人: 任益

1.一種增強閥桿運動垂直度的真空EGR閥結構，包括相配裝的閥蓋（15）和閥座（17），閥蓋與閥座形成的空腔內設置有伸出閥座（17）的閥桿（1），閥桿（1）的上部通過位于空腔內的下座（6）與上座（8）定位，所述下座（6）與上座（8）之間設置有將空腔分隔為上下兩室的皮膜（7），皮膜的邊沿壓緊在閥蓋（15）與閥座（17）的連接處；閥蓋（15）內壁上設置有用于復位閥桿（1）的彈簧（16）；其特征在于：所述閥桿（1）的頂端為設置有外螺紋的螺紋段（3），螺紋段（3）配裝有壓裝閥桿的螺母（12）；閥桿（1）緊貼上座（8）的上部設置有卡槽（2），卡槽（2）外周套裝有密封機構；所述閥桿在螺母的作用下通過密封機構壓緊在上座（8）上。

2.根據權利要求1所述的增強閥桿運動垂直度的真空EGR閥結構，其特征在于：所述密封機構包括嵌裝在卡槽（2）中貼緊上座（8）的密封墊圈（9）以及套裝在閥桿（1）上位于螺母（12）與密封墊圈（9）之間的橡膠墊圈（11）和墊片（10）。

3.根據權利要求1所述的增強閥桿運動垂直度的真空EGR閥結構，其特征在于：所述閥桿（1）位于閥座（17）下方的底端設置有便于夾持閥桿的扁位（4）。

4.根據權利要求1所述的增強閥桿運動垂直度的真空EGR閥結構，其特征在于：所述閥桿通過下座墊板（5）與下座（6）相配裝。

5.根據權利要求1所述的增強閥桿運動垂直度的真空EGR閥結構，其特征在于：所述彈簧的上端通過彈簧上座（14）固定連接在閥蓋（15）的頂壁上。