[發(fā)明專利]一種量測(cè)機(jī)臺(tái)監(jiān)測(cè)圖規(guī)格界限設(shè)定的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310099835.2
• 申請(qǐng)日: 2013-03-26
• 公開（公告）號(hào): CN104078381B
• 公開（公告）日: 2018-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬瑾怡;曹艷;簡(jiǎn)維廷
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯國(guó)際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 北京市磐華律師事務(wù)所 11336
• 代理人: 董巍;高偉

1.一種量測(cè)機(jī)臺(tái)監(jiān)測(cè)圖規(guī)格界限設(shè)定的方法，所述方法根據(jù)所述機(jī)臺(tái)特性參數(shù)、所述機(jī)臺(tái)運(yùn)行過程中的實(shí)際現(xiàn)狀以及所述機(jī)臺(tái)上線狀態(tài)下的量測(cè)要求，來設(shè)定所述機(jī)臺(tái)的規(guī)格界限，以滿足所述機(jī)臺(tái)的量測(cè)性能以及生產(chǎn)量測(cè)需求；其中，以所述機(jī)臺(tái)運(yùn)行中檢測(cè)數(shù)據(jù)6倍的標(biāo)準(zhǔn)差6σ作為所述機(jī)臺(tái)運(yùn)行過程中的實(shí)際現(xiàn)狀的控制線，以上線狀態(tài)下10％的制程規(guī)格作為所述機(jī)臺(tái)上線狀態(tài)下的量測(cè)要求；

所述機(jī)臺(tái)特性參數(shù)包括機(jī)臺(tái)精度要求，當(dāng)所述機(jī)臺(tái)精度要求小于或等于所述機(jī)臺(tái)上線狀態(tài)下的量測(cè)要求時(shí)，以所述機(jī)臺(tái)精度要求計(jì)算所述機(jī)臺(tái)過程能力指數(shù)Cp；

當(dāng)所述機(jī)臺(tái)精度要求大于所述機(jī)臺(tái)上線狀態(tài)下的量測(cè)要求時(shí)，以所述機(jī)臺(tái)上線狀態(tài)下的量測(cè)要求的制程規(guī)格計(jì)算所述機(jī)臺(tái)過程能力指數(shù)Cp；

根據(jù)計(jì)算得到的所述機(jī)臺(tái)過程能力指數(shù)Cp來制定監(jiān)測(cè)圖規(guī)格界限并判斷機(jī)臺(tái)是否存在異常。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述機(jī)臺(tái)特性參數(shù)包括機(jī)臺(tái)精度要求、重復(fù)性和再現(xiàn)性測(cè)試、工具匹配、產(chǎn)量參數(shù)，用來表征機(jī)臺(tái)所能達(dá)到的能力參數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述機(jī)臺(tái)精度要求為機(jī)臺(tái)測(cè)試值和參考值之間的接近程度。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述機(jī)臺(tái)精度要求≤10％，則機(jī)臺(tái)滿足制程的量測(cè)要求。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法還要對(duì)所述機(jī)臺(tái)過程能力指數(shù)Cp進(jìn)行監(jiān)控，所述過程能力指數(shù)Cp越大，機(jī)臺(tái)運(yùn)行過程越穩(wěn)定。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，當(dāng)所述機(jī)臺(tái)精度要求≤10％時(shí)，根據(jù)計(jì)算得到的所述機(jī)臺(tái)過程能力指數(shù)Cp，將所述機(jī)臺(tái)控制圖分為以下3種：

當(dāng)所述1.33≤Cp≤2時(shí)，所述機(jī)臺(tái)的實(shí)際現(xiàn)狀符合所述機(jī)臺(tái)精度要求，直接以所述機(jī)臺(tái)精度要求作為設(shè)定規(guī)格，為控制圖I；

當(dāng)所述Cp>2時(shí)，所述機(jī)臺(tái)的實(shí)際現(xiàn)狀超過了所述機(jī)臺(tái)精度要求，以所述機(jī)臺(tái)運(yùn)行中檢測(cè)數(shù)據(jù)6倍的標(biāo)準(zhǔn)差6σ作為設(shè)定規(guī)格，為控制圖II；

當(dāng)所述Cp<1.33時(shí)，所述機(jī)臺(tái)的實(shí)際現(xiàn)狀達(dá)不到所述機(jī)臺(tái)精度要求，以所述上線狀態(tài)下10％的制程規(guī)格作為設(shè)定規(guī)格，為控制圖III。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，當(dāng)所述機(jī)臺(tái)精度要求﹥10％時(shí)，根據(jù)計(jì)算得到的所述機(jī)臺(tái)過程能力指數(shù)Cp，將所述機(jī)臺(tái)控制圖分為以下4種：

當(dāng)所述1.33≤Cp≤2時(shí)，以上線狀態(tài)下10％的制程規(guī)格作為設(shè)定規(guī)格，為控制圖IV；

當(dāng)所述Cp>2時(shí)，所述機(jī)臺(tái)的實(shí)際現(xiàn)狀滿足了上線狀態(tài)制程規(guī)格量測(cè)需求，以所述機(jī)臺(tái)運(yùn)行中檢測(cè)數(shù)據(jù)6倍的標(biāo)準(zhǔn)差6σ作為設(shè)定規(guī)格，以改善機(jī)臺(tái)至極致水平，為控制圖V；

當(dāng)所述Cp<1.33時(shí)，判斷所述機(jī)臺(tái)運(yùn)行中檢測(cè)數(shù)據(jù)6倍的標(biāo)準(zhǔn)差6σ與所述機(jī)臺(tái)特性參數(shù)的大小，當(dāng)6σ小于機(jī)臺(tái)特性參數(shù)，以6σ作為設(shè)定規(guī)格，為控制圖VI；當(dāng)6σ大于機(jī)臺(tái)特性參數(shù)，以機(jī)臺(tái)特性參數(shù)作為設(shè)定規(guī)格，為控制圖VII。