[發明專利]柔性光電器件襯底、柔性光電器件及制備方法

有效

• 申請號: 201310099161.6
• 申請日: 2013-03-26
• 公開（公告）號: CN103531715A
• 公開（公告）日: 2014-01-22
• 發明（設計）人: 申智淵;黃宏;付東
• 申請（專利權）人: TCL集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 深圳市君勝知識產權代理事務所 44268
• 代理人: 王永文;劉文求

1.一種柔性光電器件襯底，所述柔性光電器件襯底用于制備柔性光電器件，在制備柔性光電器件過程中，在柔性光電器件襯底上會形成一層高分子薄膜，其特征在于，所述柔性光電器件襯底包括玻璃基板以及用于緩沖高分子薄膜與玻璃基板間膨脹量差的金屬薄膜，以防止高分子薄膜從玻璃基板上脫落；所述金屬薄膜設置于所述玻璃基板表面的邊緣區域，所述金屬薄膜在所述玻璃基板表面圍合形成用于加工所述柔性光電器件的面板形成區。

2.根據權利要求1所述的柔性光電器件襯底，其特征在于，所述金屬薄膜是采用熱膨脹系數為5×10^-6~20×10^-6mm/℃的金屬材料形成的。

3.根據權利要求2所述的柔性光電器件襯底，其特征在于，所述金屬材料為銅、鉻、鉬、鎢或銅鋁合金。

4.根據權利要求1所述的柔性光電器件襯底，其特征在于，所述面板形成區內包括多個用于制備單個柔性光電器件的單元面板形成區以及多個單元面板形成區之間形成的非面板粘結區；在所述非面板粘結區上設置有用于緩解高分子薄膜與玻璃基板間膨脹量差的金屬薄膜。

5.根據權利要求1所述的柔性光電器件襯底，其特征在于，所述金屬薄膜的厚度為100~500nm。

6.根據權利要求1~5任一所述的柔性光電器件襯底，其特征在于，所述玻璃基板的表面淀積形成一層犧牲層；所述犧牲層設置在所述玻璃基板與金屬薄膜之間。

7.一種如權利要求1所述的柔性光電器件襯底的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

選擇熱膨脹系數介與高分子薄膜與玻璃基板間金屬材料，采用所述金屬材料在所述玻璃基板上濺射一層金屬層，經光刻膠涂敷、曝光、顯影、刻蝕，所述玻璃基板表面的邊緣區域形成一層金屬薄膜。

8.根據權利要求7所述的玻璃基板的制備方法，其特征在于，在所述玻璃基板上濺射一層金屬層前，還包括以下步驟：

在所述玻璃基板上淀積形成犧牲層。

9.一種柔性光電器件的制備方法，其特征在于，所述柔性光電器件的制備包括柔性光電器件襯底的制備步驟，所述柔性光電器件襯底采用如權利要求7所述的柔性光電器件襯底的制備方法制備。

10.一種柔性光電器件，其特征在于，所述柔性光電器件采用如權利要求1所述的柔性光電器件襯底。