[發明專利]一種紫外線掩膜板及其制備方法和封框膠的固化方法有效
| 申請號: | 201310098781.8 | 申請日: | 2013-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN104076597A | 公開(公告)日: | 2014-10-01 |
| 發明(設計)人: | 李輝;毛利軍;魏永輝;李乃升 | 申請(專利權)人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/38 | 分類號: | G03F1/38;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 | 代理人: | 王黎延;張振偉 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紫外線 掩膜板 及其 制備 方法 封框膠 固化 | ||
1.一種紫外線掩膜板,包括:透明基板和透明基板上設置的金屬掩膜層;其特征在于,所述金屬掩膜層的圖形邊緣位置設有擋光條。
2.根據權利要求1所述的紫外線掩膜板,其特征在于,所述擋光條選用反光材料。
3.根據權利要求2所述的紫外線掩膜板,其特征在于,所述反光材料包括金屬反光材料。
4.根據權利要求3所述的紫外線掩膜板,其特征在于,所述金屬反光材料包括鋁。
5.根據權利要求1-4任一項所述的紫外線掩膜板,其特征在于,所述擋光條垂直設置于所述金屬掩膜層的圖形邊緣位置。
6.根據權利要求1-4任一項所述的紫外線掩膜板,其特征在于,所述擋光條的高度為b,所述b≥(a/2)/tg15度,所述a為封框膠的寬度。
7.一種紫外線掩膜板的制備方法,包括:在透明基板上順序沉積金屬掩膜層和感光層;通過構圖工藝形成金屬掩膜層的圖形;其特征在于,該方法還包括:通過構圖工藝在所述金屬掩膜層的圖形邊緣位置設置擋光條。
8.根據權利要求7所述的方法,其特征在于,所述擋光條選用反光材料。
9.一種封框膠的固化方法,其特征在于,采用權利要求1-6中任一項所述的紫外線掩膜板對封框膠進行固化,所述封框膠的內側邊緣與所述紫外線掩膜板上設置的擋光條的外側邊緣位于同一豎直面位置。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





