[發(fā)明專利]一種基于子孔徑拼接的高精度平面光學(xué)元件面型檢測方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310098554.5 | 申請日： | 2013-03-26 |
| 公開（公告）號： | CN103217125A | 公開（公告）日： | 2013-07-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 沈正祥;徐旭東;孫曉雁;王曉強(qiáng);馬彬;程鑫彬;王占山 | 申請（專利權(quán)）人： | 同濟(jì)大學(xué) |
| 主分類號： | G01B11/24 | 分類號： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人： | 張磊 |
| 地址： | 200092 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 孔徑 拼接 高精度 平面 光學(xué) 元件 檢測 方法 | ||
1.一種基于子孔徑拼接的高精度平面光學(xué)元件面型檢測方法，其特征在于采用平面光學(xué)元件檢測裝置進(jìn)行檢測，所述檢測裝置包括二維平移臺、干涉儀和標(biāo)準(zhǔn)平面透鏡，所述標(biāo)準(zhǔn)平面透鏡固定于干涉儀出瞳端，所述二維平移臺上放置有平面光學(xué)元件，所述干涉儀的出瞳正對平面光學(xué)元件，使平面光學(xué)元件平行于標(biāo)準(zhǔn)平面透鏡，以便測量干涉圖像，具體步驟如下：
(1)將所述平面光學(xué)元件固定在二維平移臺上，干涉儀對準(zhǔn)所述平面光學(xué)元件的位置；
(2)調(diào)節(jié)二維平移臺到達(dá)指定目標(biāo)分布區(qū)域；
(3)使干涉儀出瞳對準(zhǔn)平面光學(xué)元件進(jìn)行采集測量計算，得到該子孔徑面型信息；
(4)重復(fù)步驟(2)和(3)，直到完成全部子孔徑的測量，即可實(shí)現(xiàn)所述平面光學(xué)元件的子孔徑測量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于子孔徑拼接的高精度平面光學(xué)元件面型檢測方法，其特征在于所述二維平移臺采用XZ方向平移臺。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于子孔徑拼接的高精度平面光學(xué)元件面型檢測方法，其特征在于所述干涉儀采用菲索型干涉儀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于子孔徑拼接的高精度平面光學(xué)元件面型檢測方法，其特征在于步驟(2)中移動二維平移臺到達(dá)指定目標(biāo)分布區(qū)域，利用小口徑干涉儀對所述平面光學(xué)元件的指定目標(biāo)分布區(qū)域，即子孔徑區(qū)域進(jìn)行逐個檢測。
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