[發明專利]一種提升工業氯化鉻品質的方法有效
| 申請號: | 201310098141.7 | 申請日: | 2013-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN103130280A | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發明(設計)人: | 鄭琦;羅葦;凌芳;馬駿;陳浩云 | 申請(專利權)人: | 國藥集團化學試劑有限公司 |
| 主分類號: | C01G37/04 | 分類號: | C01G37/04 |
| 代理公司: | 上海開祺知識產權代理有限公司 31114 | 代理人: | 費開逵 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提升 工業 氯化 品質 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種提升工業氯化鉻品質的方法,特別涉及一種利用改性聚偏氟乙烯(PVDF)膜進行膜過濾提升氯化鉻品質的方法。
背景技術
氯化鉻又稱六水氯化鉻,是一種制備無機或有機鉻化合物常用的原料,特別是有機酸鉻,如醫療、食品添加劑、飼料添加劑、油田用鉻化合物的生產大都用氯化鉻為原料。氯化鉻作為制取催化劑,可直接用作有機合成催化劑、媒染劑、聚合膠黏劑及用于三價鉻鍍鉻,應用非常廣泛。
現有技術中,氯化鉻的制備方法有多種,如1)利用硫磺或硫化堿還原堿性液生產的氫氧化鉻制備氯化鉻,2)用鉻綠尾氣回收的氫氧化鉻生產氯化鉻,3)氧化鉻氯化制氯化鉻,4)碳素鉻鐵氯化制氯化鉻,5)鉻酸酐用乙醇還原制氯化鉻,6)鉻酸鈉還原制氯化鉻,7)鉻酸鉻制氯化鉻等。但是由于目前的工藝方法生產的氯化鉻受到初始原料、水質的影響和生產工藝的局限,產品中的雜質金屬離子含量偏高,目前還未見有關提升氯化鉻品質方法的相關報道。
發明內容
本發明所要解決的問題在于提供一種提升工業氯化鉻品質的方法,以克服現有技術中氯化鉻產品雜質金屬離子含量偏高的不足。
本發明的技術構思如下:
以工業氯化鉻為原料,加入高純水中溶解,溶解液經平均孔徑為0.1-0.2μm的改性聚偏氟乙烯(PVDF)膜進行膜過濾,得到去除雜質金屬離子的濾液,在常壓下經除水、冷卻,將析出的晶體進行干燥,即得到提升了品質后的氯化鉻。
具體而言,所述的提升工業氯化鉻品質的方法,包括如下步驟:
將工業氯化鉻與高純水在室溫下攪拌、溶解,溶解液經改性聚偏氟乙烯(PVDF)膜進行膜過濾去除工業氯化鉻中的雜質金屬離子,得到的濾液在常壓、100~105℃條件下蒸除水分,冷卻至室溫,將析出的晶體干燥,在80~90℃溫度下干燥8~10小時,即得到提升品質的氯化鉻。
其中上述方法中,所述的高純水的比抗阻值大于17MΩ.cm,工業氯化鉻與高純水的質量體積比為1:5~10,g/ml,采用平均孔徑為0.1-02μm的改性聚偏氟乙烯(PVDF)膜進行過濾時用真空水泵提供負壓。
聚偏氟乙烯(PVDF)具有價格低廉、化學和熱穩定性好、機械強度高等優點,但未經改性的PVDF膜由于其強疏水性導致材料表面的親水性差、污染嚴重,從而制約了PVDF膜的廣泛應用,因此需對PVDF材料膜進行改性處理。本發明采用的改性PVDF膜為采用輻照接枝技術進行親水改性的PVDF膜,具體方法參看浙江大學博士論文,劉富,2007.6.《PVDF、PVC微孔膜親水化改性的研究》。
相對于其他傳統方法,本發明采用輻照接枝改性PVDF膜,優點在于:輻照引發過程不需要任何催化劑或者添加劑,因此產物純凈、環境友好、無污染;輻照引發過程中,聚合物基體上自由基的產生不依賴于溫度,只取決于聚合物體系輻照能量的吸收。采用經過輻照接枝改性后的PVDF膜過濾的處理工藝取得了理想的效果。
用本發明方法得到的提升品質的氯化鉻,純度達到99.5%及以上,符合HG3-935-81的質量標準。
本發明去除雜質金屬離子的效果好,得到的產品質量穩定,適于工業化生產。
具體實施方式
下面通過具體實施例對本發明做進一步的說明,但實施例并不限制本發明的保護范圍。需要說明的是,以下實施例僅用以說明本發明的技術方案而非限制。盡管參照較佳實施例對本發明進行了詳細說明,本領域的普通技術人員應當理解,可以對發明的技術方案進行修改或者等同替換,而不脫離本發明技術方案的范圍,其均應涵蓋在本發明的權利要求范圍中。
實施例1
將工業氯化鉻100g加入比抗阻值為17MΩ.cm的高純水500ml中,室溫下攪拌溶解,溶解液用平均孔徑為0.1μm的改性聚偏氟乙烯(PVDF)膜進行膜過濾,得到的濾液在常壓,100~105℃的條件下蒸除水分,冷卻至室溫,析出的晶體放入真空烘箱,在80℃下干燥10小時,即得到提升品質的氯化鉻92g。將獲得的氯化鉻產品進行分析檢測,其純度≥99.5%。具體檢測數據如下表1所示。
表1
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