[發明專利]基板檢查裝置及基板檢查方法有效
| 申請號: | 201310097215.5 | 申請日: | 2013-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN103454286A | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發明(設計)人: | 八坂智 | 申請(專利權)人: | 大日本網屏制造株式會社 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
| 地址: | 日本京都市上京區堀川*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢查 裝置 方法 | ||
1.一種基板檢查裝置,進行通過蝕刻而形成在基板的表面的配線圖案的缺陷檢查,其特征在于包括:
信息測量單元,根據形成在所述基板的表面的測量用圖案來對蝕刻信息進行測量;
模擬單元,使用所述蝕刻信息,對設計數據進行蝕刻模擬,由此來生成檢查數據;以及
缺陷檢測單元,對形成在所述基板的表面的所述配線圖案進行拍攝,通過將所獲得的圖像數據與所述檢查數據加以對照,來檢測缺陷。
2.根據權利要求1所述的基板檢查裝置,其特征在于:所述配線圖案包含多個單片圖案,所述模擬單元對所述多個單片圖案中的一部分的單片圖案的設計數據進行所述蝕刻模擬,并且對所述蝕刻模擬的結果進行整合,由此,生成所述檢查數據。
3.根據權利要求1所述的基板檢查裝置,其特征在于:在所述基板的表面設定著多個檢查區域,在多個所述檢查區域的各檢查區域設置著所述測量用圖案,所述信息測量單元對多個所述測量用圖案的各測量用圖案測量蝕刻信息,所述模擬單元使用從所述各檢查區域中所包含的測量用圖案而獲得的蝕刻信息,針對每個所述檢查區域來進行蝕刻模擬。
4.根據權利要求3所述的基板檢查裝置,其特征在于:所述檢查區域內包含多個單片圖案,所述模擬單元對所述多個單片圖案中的一部分的單片圖案的設計數據進行所述蝕刻模擬,并且對所述蝕刻模擬的結果進行整合,由此,生成所述檢查數據。
5.根據權利要求3或4所述的基板檢查裝置,其特征在于:還包括區域設定單元,所述區域設定單元通過用戶的操作來設定多個所述檢查區域。
6.根據權利要求1至4中任一項所述的基板檢查裝置,其特征在于:所述配線圖案與所述測量用圖案形成在單一的基板的表面。
7.一種基板檢查裝置,進行通過蝕刻而形成在基板的表面的配線圖案的缺陷檢查,其特征在于包括:
信息測量單元,根據僅形成著測量用圖案的蝕刻曲線測量用基板的表面的所述測量用圖案來對蝕刻信息進行測量;
模擬單元,使用所述蝕刻信息,對設計數據進行蝕刻模擬,由此來生成檢查數據;以及
缺陷檢測單元,對形成在所述基板的表面的所述配線圖案進行拍攝,通過將所獲得的圖像數據與所述檢查數據加以對照,來檢測缺陷。
8.一種基板檢查方法,進行通過蝕刻而形成在基板的表面的配線圖案的缺陷檢查,其特征在于:在單一的裝置中進行下述工序:
a)根據形成在所述基板的表面的測量用圖案來對蝕刻信息進行測量;
b)使用所述蝕刻信息,對設計數據進行蝕刻模擬,由此來生成檢查數據;以及
c)對形成在所述基板的表面的配線圖案進行拍攝,通過將所獲得的圖像數據與所述檢查數據加以對照,來檢測缺陷。
9.根據權利要求8所述的基板檢查方法,其特征在于:在所述工序b)中,對構成所述配線圖案的多個單片圖案中的一部分的單片圖案的設計數據,進行所述蝕刻模擬,并且對所述蝕刻模擬的結果進行整合,由此,生成所述檢查數據。
10.根據權利要求8所述的基板檢查方法,其特征在于:在所述工序a)中,對所述基板的表面上所設定的多個檢查區域的各檢查區域中所設置的多個所述測量用圖案的各測量用圖案測量蝕刻信息,在所述工序b)中,利用從所述各檢查區域中所包含的測量用圖案而獲得的蝕刻信息,針對每個所述檢查區域來進行蝕刻模擬。
11.根據權利要求10所述的基板檢查方法,其特征在于:在所述工序b)中,對構成所述檢查區域的多個單片圖案中的一部分的單片圖案的設計數據,進行所述蝕刻模擬,并且對所述蝕刻模擬的結果進行整合,由此,生成所述檢查數據。
12.一種基板檢查方法,進行通過蝕刻而形成在基板的表面的配線圖案的缺陷檢查,其特征在于:在單一的裝置中進行下述工序:
a)準備僅形成著測量用圖案的蝕刻曲線測量用基板;
b)根據形成在所述蝕刻曲線測量用基板的表面的所述測量用圖案來對蝕刻信息進行測量;
b)使用所述蝕刻信息,對設計數據進行蝕刻模擬,由此來生成檢查數據;以及
c)對形成在所述基板的表面的配線圖案進行拍攝,通過將所獲得的圖像數據與所述檢查數據加以對照,來檢測缺陷。
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