[發明專利]曝光裝置以及圖像形成裝置

無效

• 申請號: 201310096399.3
• 申請日: 2013-03-25
• 公開（公告）號: CN103364946A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發明（設計）人: 久保信秋;鴇田才明;酒井浩司;渡邊直人;中島智宏;石山賴史
• 申請（專利權）人: 株式會社理光
• 主分類號: G02B26/10
• 分類號: G02B26/10;G03G15/04
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 趙蓉民

1.一種曝光裝置，其中包括光源、將該光源發射的光引導到被曝光裝置的光學系統、以及以多塊板形部件構成并用于保持所述光源和所述光學系統的光學框體，其特征在于，

在所述光學框體中的至少一塊板形部件的至少一部分表面以及一部分背面上分別形成多條以預定間隔排設的漕，在該多條漕的排設方向上，所述表面上形成的所述漕的中心位置與所述背面上形成的所述漕的中心位置互相偏離。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述光學框體與所述被曝光部件均被收納在框體中，所述光學框體具有用于安裝到所述框體上的固定部，在所述表面以及所述背面上為以該固定部為基點形成所述多條漕。

3.根據權利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，所述表面以及所述背面上的多條漕形成為以所述固定部為圓心的同心圓弧形。

4.根據權利要求2或3所述的曝光裝置，其特征在于，在所述光學框體的底板的表面以及背面上形成多條漕，所述排設方向與從所述固定部到所述底板的中心的方向一致。

5.根據權利要求1～3中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于，在所述光學框體的側板的表面以及背面上形成多條漕。

6.根據權利要求1～5中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于，所述多條漕以等間隔形成，所述表面上的漕的中心位置與所述背面上的漕的中心位置之間的偏離量為所述間隔的1/2倍。

7.根據權利要求1～6中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于，所述多條漕中的各條漕的截面形狀為矩形。

8.根據權利要求1～7中任意一項所述的曝光裝置，其特征在于，所述光學系統具備：設置于所述光源射出的光的光路上的偏轉器前光學系統、用于偏轉經過所述偏轉器前光學系統的光的光偏轉器、以及將經過所述偏轉器偏轉后的光會聚到所述被曝光部件表面的掃描光學系統。

9.一種圖像形成裝置，具備多個像載置體、以及對各個所述像載置體分別曝光的權利要求1～8中任意一項所述的曝光裝置。