[發明專利]彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀無效
| 申請號: | 201310096076.4 | 申請日: | 2013-03-22 |
| 公開(公告)號: | CN103234635A | 公開(公告)日: | 2013-08-07 |
| 發明(設計)人: | 陳友華;陳媛媛;王召巴;王志斌;王立福;張瑞;王艷超;魏海潮 | 申請(專利權)人: | 中北大學 |
| 主分類號: | G01J3/45 | 分類號: | G01J3/45 |
| 代理公司: | 山西五維專利事務所(有限公司) 14105 | 代理人: | 李印貴 |
| 地址: | 030051 山*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調制 傅里葉變換 干涉 成像 光譜儀 | ||
1.彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀,其特征在于:包括掃描反射鏡(1)、入射光瞳(2)、離軸三反望遠鏡、視場光闌(5)、彈光調制型干涉儀;其中:離軸三反望遠鏡包括球面鏡(3)和一對非球面鏡(4、6);彈光調制型干涉儀包括起偏器(7)、靜態雙折射晶體(8)、彈光調制器(9)、檢偏器(11)、成像反射鏡(12)及探測器(13),其中:彈光調制器(9)又包括壓電石英驅動器、彈光晶體及高反射率膜;來自目標的入射光線經掃描反射鏡反射后,經入射光瞳選擇一定視場角范圍的光進入離軸三反望遠鏡,光線經離軸三反望遠鏡反射、聚焦、縮束并準直后進入彈光調制干涉儀進行雙折射干涉調制:彈光調制干涉儀的起偏器和檢偏器對入射光進行起偏,然后由靜態雙折射晶體產生特定大小的靜態光程差,再由彈光調制器對入射的偏振光進行人工雙折射干涉調制,產生干涉條紋,最后成像反射鏡將調制后的干涉光聚焦至探測器的光敏面處完成光譜成像。
2.根據權利要求1所述的彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀,其特征在于:經過離軸三反望遠鏡后的光束為平行光、或為發散光、或為會聚光。
3.根據權利要求1所述的彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀,其特征在于:該彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀中除入射光瞳和視場光闌外,各個光學元件均采用全反射式光學元件,并且均鍍制高反射率膜。
4.根據權利要求1所述的彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀,其特征在于:所述的掃描反射鏡為平面鏡,對目標進行逐點掃描。
5.根據權利要求1所述的彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀,其特征在于:所述的成像反射鏡是球面反射鏡或離軸拋物面反射鏡,或是前述兩種反射鏡組合形成的成像反射鏡組。
6.根據權利要求1所述的彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀,其特征在于:所述的彈光晶體前后通光表面鍍制的高反射率膜是交錯對稱的。
7.根據權利要求1所述的彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀,其特征在于:所述的靜態雙折射晶體的通光方向為晶體的光軸方向,其產生的靜態光程差大于或等于彈光調制器調制光程差。
8.根據權利要求1所述的彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀,其特征在于:所述的探測器可以是陣列探測器,或是點探測器,放置于反射成像鏡的焦點處。
9.根據權利要求1所述的彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀,其特征在于:所述的起偏器與檢偏器相互正交放置,并分別與彈光調制器成±45°夾角。
10.根據權利要求1所述的彈光調制型傅里葉變換干涉成像光譜儀,其特征在于:所述的掃描反射鏡的掃描速率與彈光調制干涉儀的調制速率匹配。
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