[發(fā)明專利]對(duì)產(chǎn)品容器例如瓶子進(jìn)行等離子體涂覆的裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310095052.7
• 申請(qǐng)日: 2013-03-22
• 公開（公告）號(hào): CN103320773A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 喬奇恩·克魯格;梅爾廷·瓦特
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 克朗斯股份公司
• 主分類號(hào): C23C16/52
• 分類號(hào): C23C16/52
• 代理公司: 北京金信立方知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225
• 代理人: 黃威;孫麗梅

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及對(duì)產(chǎn)品容器例如瓶子進(jìn)行等離子體涂覆的裝置。

背景技術(shù)

在現(xiàn)有技術(shù)中存在用于等離子體涂覆的一些裝置。

例如，DE102004028369中得知在回轉(zhuǎn)式設(shè)施中用于處理基片的方法和裝置。特別地該裝置能夠用于對(duì)回轉(zhuǎn)式設(shè)施中的塑料容器進(jìn)行涂覆。在此，在回轉(zhuǎn)式機(jī)械上提供了多個(gè)處理裝置并且根據(jù)它們?cè)诨剞D(zhuǎn)式機(jī)械上的角位置執(zhí)行多個(gè)加工階段。根據(jù)回轉(zhuǎn)式機(jī)械的預(yù)定的旋轉(zhuǎn)速度可變地調(diào)整對(duì)于不同的加工階段中的至少一個(gè)加工階段的角位置是可能的。

這個(gè)裝置的優(yōu)勢(shì)在于：即使回轉(zhuǎn)式機(jī)械的旋轉(zhuǎn)速度改變，各個(gè)加工階段的加工持續(xù)時(shí)間能夠保持恒定。

此外，WO03/100120顯示了用于處理工件的裝置和方法。這個(gè)方法的優(yōu)勢(shì)在于：提供了各自具有至少一個(gè)待處理的工件的多個(gè)處理裝置。

而且，DE102005015063顯示了自動(dòng)地產(chǎn)生回轉(zhuǎn)式機(jī)械的控制指令的裝置和方法。本發(fā)明提供了允許使用者經(jīng)由結(jié)構(gòu)化的菜單導(dǎo)航來(lái)產(chǎn)生用于控制回轉(zhuǎn)式機(jī)械的程序代碼的系統(tǒng)。這在兩個(gè)菜單級(jí)完成，在第一個(gè)菜單級(jí)處，定義回轉(zhuǎn)式機(jī)械的段，并且在第二個(gè)菜單級(jí)處，確定回轉(zhuǎn)式機(jī)械或處理站的功能。

這允許了將循環(huán)外周（circulating?periphery）邏輯劃分成單獨(dú)的能夠控制某些功能的段。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的目的是開發(fā)一種對(duì)產(chǎn)品容器例如瓶子進(jìn)行等離子體涂覆的裝置，該裝置允許高的靈活性和不合格品的最小化。

根據(jù)本發(fā)明，這個(gè)目的通過(guò)以權(quán)利要求1為特征的裝置和權(quán)利要求11中描述的方法實(shí)現(xiàn)。

從屬權(quán)利要求包括本發(fā)明的功能實(shí)施例。

本發(fā)明的特征在于：各個(gè)電極段能夠接收至少一個(gè)產(chǎn)品容器并且根據(jù)工藝參數(shù)，控制單元能夠自動(dòng)地控制在一個(gè)或各個(gè)電極段中或在可選取的電極段中的等離子體涂覆。因此，一方面，在單一的加工步驟中涂覆在電極段中的多個(gè)產(chǎn)品容器是可能的，并且此外使得加工的過(guò)程適用于變化的外部工藝參數(shù)是可能的。如果工藝參數(shù)的意外變化發(fā)生（例如單一產(chǎn)品容器的丟失或阻塞裝置的上游或下游），這是特別地有利的。

在一個(gè)實(shí)施例中，控制單元能夠?qū)⒏哳l輻射的功率調(diào)整至0W和值L之間的值，所述值L在最大的產(chǎn)品容器總數(shù)n和正常的運(yùn)行速度b處被采用，正常的運(yùn)行速度b通常是規(guī)定的最大運(yùn)行速度。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)高頻輻射的功率優(yōu)選理想地適用于變化的工藝參數(shù)。

在另一個(gè)實(shí)施例中，提供了速度傳感器，其能夠測(cè)量所述產(chǎn)品容器的當(dāng)前傳輸速度v并且能夠?qū)⒃撝缔D(zhuǎn)送到所述控制單元，或者當(dāng)前傳輸速度v能夠在所述控制單元中被預(yù)先確定并且所述控制單元能夠相應(yīng)地控制所述產(chǎn)品容器的驅(qū)動(dòng)件。這能夠有助于適用等離子體涂覆加工，特別地在裝置上游或下游的產(chǎn)品容器阻塞的情況下，使得在容器已經(jīng)穿過(guò)裝置后防止阻塞的加重，和/或在裝置上游的產(chǎn)品容器阻塞的情況下防止裝置仍然是空的。

在另一個(gè)實(shí)施例中，根據(jù)所述產(chǎn)品容器的當(dāng)前傳輸速度v，例如回轉(zhuǎn)式機(jī)械中的旋轉(zhuǎn)速度，所述控制單元控制在一個(gè)或各個(gè)電極段中的高頻輻射的功率。這允許了在各個(gè)產(chǎn)品容器的各自等離子體涂覆加工中經(jīng)由通過(guò)電極而耦合輸入的高頻輻射在對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品容器中總是沉積相同的能量。

在另一個(gè)實(shí)施例中，控制單元根據(jù)或基于當(dāng)前傳輸速度v與正常的運(yùn)行速度b的比將高頻輻射的功率L₁調(diào)整為

特別地在處，于與b相比較為低的當(dāng)前傳輸速度b并且由此產(chǎn)品容器在用于等離子體涂覆的裝置中的延長(zhǎng)的暴露時(shí)間的情況下，然而與正常的運(yùn)行速度相比較這允許了在產(chǎn)品容器中沉積相同的能量。

在另一個(gè)實(shí)施例中，提供了用于產(chǎn)品容器的檢測(cè)裝置（例如擋光板），檢測(cè)裝置能夠?qū)㈥P(guān)于產(chǎn)品容器進(jìn)入一個(gè)或進(jìn)入各個(gè)電極段中的信號(hào)發(fā)送到控制單元，控制單元基于這些信號(hào)能夠確定在一個(gè)或各個(gè)電極段中的產(chǎn)品容器的數(shù)量m。

根據(jù)通過(guò)電極耦合輸出的高頻輻射的功率，這允許了在一個(gè)或各個(gè)電極段中的產(chǎn)品容器的數(shù)量的連續(xù)控制并且允許了產(chǎn)品容器中所沉積的能量的確定。

在另一個(gè)實(shí)施例中，所述控制單元根據(jù)產(chǎn)品容器的數(shù)量m能夠控制在一個(gè)或各個(gè)電極段中的電極的功率。

這允許了由電極耦合輸出的高頻輻射的功率的適應(yīng)，并且因此例如在一個(gè)或各個(gè)電極段中存在僅比最大的產(chǎn)品容器總數(shù)少的幾個(gè)產(chǎn)品容器的情況下允許電極功率的減少。

在另一個(gè)實(shí)施例中，控制單元根據(jù)或基于一個(gè)或各個(gè)電極段中的產(chǎn)品容器的數(shù)量m與一個(gè)或各個(gè)電極段中的最大的產(chǎn)品容器總數(shù)N的比將一個(gè)或各個(gè)所述電極段中的高頻輻射的功率L₂調(diào)整為