[發(fā)明專利]雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310094728.0
• 申請(qǐng)日: 2013-03-22
• 公開（公告）號(hào): CN103207452A
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 付強(qiáng);張新;史廣維;王靈杰;張建萍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號(hào): G02B27/00
• 分類號(hào): G02B27/00;G02B17/08;G01J5/08
• 代理公司: 長(zhǎng)春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210
• 代理人: 南小平

1.雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)，包括主鏡（1）、次鏡（2）、中繼鏡組（3）和焦平面探測(cè)器（8）；其特征在于，

所述主鏡（1）、次鏡（2）、中繼鏡組（3）和焦平面探測(cè)器（8）在同一光軸上，所述主鏡（1）的反射面和所述次鏡（2）的反射面相對(duì)排布，所述主鏡（1）開有中心孔，所述中繼鏡組（3）和焦平面探測(cè)器（8）位于所述主鏡（1）的中心孔內(nèi)，所述中繼鏡組（3）位于第一像面（4）與焦平面探測(cè)器（8）之間，主鏡（1）和次鏡（2）為卡塞格林結(jié)構(gòu)形式；光束經(jīng)主鏡（1）反射后入射到次鏡（2）上，由次鏡（2）反射聚焦成像在第一像面（4）上；中繼鏡組（3）將第一像面（4）上的目標(biāo)轉(zhuǎn)像，聚焦到第二像面上；所述第二像面與焦平面探測(cè)器（8）的焦平面陣列（7）重合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)，其特征在于，所述光學(xué)系統(tǒng)光譜透過(guò)范圍為3μm-10μm，系統(tǒng)可對(duì)中波紅外和長(zhǎng)波紅外同時(shí)成像。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)，其特征在于，所述的焦平面探測(cè)器（8）為制冷型探測(cè)器，包含焦平面探測(cè)器窗口（5）、焦平面探測(cè)器冷闌（6）和焦平面陣列（7），所述焦平面探測(cè)器冷闌（6）位于焦平面探測(cè)器窗口（5）和焦平面陣列（7）之間，所述焦平面探測(cè)器窗口（5）基于紅外透過(guò)材料，所述焦平面陣列（7）為中波紅外/長(zhǎng)波紅外雙波段焦平面陣列（7）或?qū)挷ǘ谓蛊矫骊嚵校?）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)，其特征在于，所述主鏡（1）為凹非球面反射鏡，所述次鏡（2）為凸非球面反射鏡；所述主鏡（1）和所述次鏡（2）的材料為鋁、碳化硅、鈹、鈹鋁或微晶玻璃。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)，其特征在于，所述主鏡（1）的反射面為標(biāo)準(zhǔn)二次曲面或高次非球面；所述次鏡（2）的反射面為標(biāo)準(zhǔn)二次曲面或高次非球面。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)，其特征在于，所述中繼鏡組（3）包括沿同一光軸順序放置的第一折射透鏡（31）、第二折射透鏡（32）、第三折射透鏡（33）和第四折射透鏡（34）。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)，其特征在于，所述第一折射透鏡（31）基于Ge晶體材料，第一折射透鏡前表面（311）為球面，第一折射透鏡后表面（312）為非球面。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)，其特征在于，所述第二折射透鏡（32）基于ZNS晶體材料，其第二折射透鏡前表面（321）和第二折射透鏡后表面（322）均為球面。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)，其特征在于，所述第三折射透鏡（33）基于BaF2晶體材料，其第三折射透鏡前表面（331）和第三折射透鏡后表面（332）均為球面。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙波段共光路共焦面成像系統(tǒng)，其特征在于，所述第四折射透鏡（34）基于ZnSe晶體材料，其第四折射透鏡前表面（341）為非球面，第四折射透鏡后表面（342）為球面。