[發明專利]電接點材料及其制造方法和電接點有效
| 申請號: | 201310093337.7 | 申請日: | 2013-03-22 |
| 公開(公告)號: | CN103325583B | 公開(公告)日: | 2017-04-26 |
| 發明(設計)人: | 白谷正治;馬場俊幸;山口博文;宮崎寧記;案浦康德 | 申請(專利權)人: | 日本鎢合金株式會社 |
| 主分類號: | H01H1/04 | 分類號: | H01H1/04 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 接點 材料 及其 制造 方法 | ||
1.一種電接點,其特征在于:
采用含有以下(一)、(二)、(三)的質量之和占總質量的95質量%以上、100質量%以下的的電接點材料得到,
(一):5~50質量份的M1;
(二):必須含有M2和鐵族金屬元素,與(一)合計為100質量份的M2、鐵族金屬和/或M2與鐵族金屬的合金;
(三):相對于(一)和(二)的合計質量100質量份為0.05~8外部質量份的M3的硼氧化物和/或所述M3的硼氧化物的構成物,
其中,
所述M1為Cu或Ag中的任一種或兩種和它們的合金,
所述M2為W或Mo中的任一種或兩種和它們的合金,
所述M3為Ca、Sr、Ba、Mg、稀土金屬中的任一種或兩種以上的金屬,
所述M3的硼氧化物的構成物包括氧化硼以及所述M3的氧化物和/或碳氧化物。
2.如權利要求1所述的電接點,其特征在于:
所述(三)的M3的硼氧化物的一部分或全部分解,
以氧化硼以及M3氧化物和/或M3的碳氧化物M3CO3中的任一種或兩種以上的形態存在,
其中,氧化硼為B2O3、B2O2、B4O3·2H2O、B4O5中的任一種以上,
M3氧化物為M32O3和/或M3O2。
3.如權利要求1或2所述的電接點,其特征在于:
鐵族金屬的質量和M2與鐵族金屬的合金的質量的合計,
相對于所述(一)和所述(二)的合計質量100質量份,占0.005~1質量份。
4.如權利要求1或2所述的電接點,其特征在于:
將所述(三)的M3的硼氧化物表示為M3aBbOc時,包括
a=2、b=2、c=5所示的第一硼氧化物,和
a=1、b=2、c=4所示的第二硼氧化物中的任一種或兩種。
5.如權利要求3所述的電接點,其特征在于:
將所述(三)的M3的硼氧化物表示為M3aBbOc時,包括
a=2、b=2、c=5所示的第一硼氧化物,和
a=1、b=2、c=4所示的第二硼氧化物中的任一種或兩種。
6.一種電接點的制造方法,其特征在于,包括:
準備(一)的工序,(一):5~50質量份的M1;
準備(二)的工序,(二):與(一)的合計為100質量份的M2和鐵族金屬;和
準備(三)的工序,(三):相對于(一)和(二)的合計質量100質量份為0.05~8外部質量份的M3的硼氧化物和/或所述M3的硼氧化物的構成物,
其中,
所述M1為Cu或Ag中的任一種或兩種和它們的合金,
所述M2為W或Mo中的任一種或兩種和它們的合金,
所述M3為Ca、Sr、Ba、Mg、稀土金屬中的一種或兩種以上的金屬,
所述M3的硼氧化物的構成物包括氧化硼以及所述M3的氧化物和/或碳氧化物;
使用所述(二)和所述(三)形成骨架合金的工序;和
使所述(一)熔浸于所述骨架合金的工序。
7.如權利要求6所述的電接點的制造方法,其特征在于:
準備所述(三)的工序包括:
準備所述氧化硼的粉末和所述M3的氧化物或碳氧化物的粉末作為所述M3的硼氧化物的構成物的工序;和
混合所述氧化硼的粉末和所述M3的氧化物或碳氧化物的粉末,進行熱處理的工序。
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