[發(fā)明專利]半導(dǎo)體元件、半導(dǎo)體裝置及電力變換器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310093194.X | 申請(qǐng)日: | 2010-04-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103219382A | 公開(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 安達(dá)和廣;楠本修;內(nèi)田正雄;橋本浩一;風(fēng)間俊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L29/78 | 分類號(hào): | H01L29/78;H01L29/24;H01L29/06;H01L21/336 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 元件 裝置 電力 變換器 | ||
本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2010年4月28日、申請(qǐng)?zhí)枮?01080018113.4、發(fā)明名稱為“半導(dǎo)體元件、半導(dǎo)體裝置及電力變換器”的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體元件。特別涉及使用于高耐壓、大電流場(chǎng)合的碳化硅半導(dǎo)體元件(功率半導(dǎo)體器件)。另外,本發(fā)明涉及具備碳化硅半導(dǎo)體元件的半導(dǎo)體裝置及電力變換器。
背景技術(shù)
碳化硅(silicon?carbide:SiC)是與硅(Si)相比帶隙大的高硬度的半導(dǎo)體材料,被應(yīng)用于功率器件、耐環(huán)境元件、高溫動(dòng)作元件、高頻元件等各種半導(dǎo)體裝置。其中,在半導(dǎo)體元件或整流元件等功率器件中的應(yīng)用備受關(guān)注。使用了SiC的功率器件與Si功率器件相比,其優(yōu)點(diǎn)在于能夠大幅度降低功率損耗等。另外,SiC功率器件能靈活應(yīng)用這種特性,較之Si功率器件能夠?qū)崿F(xiàn)更小型的半導(dǎo)體裝置。
使用了SiC的功率器件之中的代表性半導(dǎo)體元件是金屬-絕緣體-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(Metal-Insulator-Semiconductor?Field-Effect?Transistor:MISFET)。下面,有時(shí)將SiC的MISFET僅稱為“SiC-FET”。金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(Metal-Oxide-Semiconductor?Field-Effect?Transistor:MOSFET)是MISFET的一種。當(dāng)SiC的pn結(jié)中流動(dòng)正向電流時(shí),存在著因基板底面錯(cuò)位導(dǎo)致層疊缺陷增大這一SiC固有的問題。在將SiC-FET作為開關(guān)元件,例如使用在對(duì)電動(dòng)機(jī)等負(fù)載進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制的電力變換器等中的情況下,會(huì)產(chǎn)生上述問題。在作為進(jìn)行同步整流型控制的電力變換器的開關(guān)元件而使用SiC-FET的情況下,如后面的詳細(xì)說明那樣,需要在SiC-FET處于截止?fàn)顟B(tài)時(shí)流動(dòng)“回流電流”。作為該回流電流的路徑,有時(shí)使用SiC-FET內(nèi)在的pn結(jié)。這種pn結(jié)存在于構(gòu)成SiC-FET的半導(dǎo)體元件的內(nèi)部,由于作為二極管發(fā)揮作用,因此稱為“體二極管(body?diode)”。當(dāng)將SiC-FET內(nèi)在的pn結(jié)二極管(體二極管)作為回流二極管使用時(shí),在作為pn結(jié)的體二極管中沿正向流動(dòng)電流。當(dāng)該電流流經(jīng)SiC的pn結(jié)時(shí),認(rèn)為因體二極管的雙極性動(dòng)作會(huì)導(dǎo)致SiC-FET的結(jié)晶劣化(例如專利文獻(xiàn)1、非專利文獻(xiàn)1、2)。
當(dāng)SiC-FET的結(jié)晶劣化時(shí),體二極管的ON電壓有可能上升。另外,當(dāng)將體二極管作為回流二極管使用時(shí),因pn結(jié)二極管的雙極性動(dòng)作導(dǎo)致二極管從導(dǎo)通狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)榻刂範(fàn)顟B(tài)時(shí),流動(dòng)反向恢復(fù)電流。反向恢復(fù)電流產(chǎn)生恢復(fù)損耗,導(dǎo)致開關(guān)速度下降。
為了解決通過將體二極管作為回流二極管使用而產(chǎn)生的這種問題,提出將作為電子元件的回流二極管元件與SiC-FET反向并聯(lián)連接使得在回流二極管元件中流動(dòng)回流電流的方案(例如專利文獻(xiàn)2)。
圖1表示具有回流二極管元件的典型的逆變器電路1000的構(gòu)成。
逆變器電路1000是用于驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)等的負(fù)載1500的電路,具備由SiC-FET構(gòu)成的多個(gè)半導(dǎo)體元件1100。在逆變器電路1000中,與半導(dǎo)體元件1100反向并聯(lián)地連接著回流二極管元件1200。通過半導(dǎo)體元件1100流動(dòng)導(dǎo)通電流(IF),通過回流二極管元件1200流動(dòng)回流電流(IR)。由串聯(lián)連接的兩個(gè)半導(dǎo)體元件1100構(gòu)成了一個(gè)組,相對(duì)于直流電源2000并聯(lián)設(shè)置三個(gè)組。各半導(dǎo)體元件1100的柵極電位由控制器控制。
圖2(a)示出半導(dǎo)體元件(SiC-FET)1100的構(gòu)成。半導(dǎo)體元件1100由碳化硅(SiC)半導(dǎo)體構(gòu)成,具有在n+基板(SiC基板)110上層疊了n-漂移(drift)層120的構(gòu)造。在n-漂移層120的上部形成了p體區(qū)域130,在p體區(qū)域130的上部形成了p體接觸區(qū)域132和n+源極區(qū)域140。并且,在p體接觸區(qū)域132及n+源極區(qū)域140上形成了源極電極145。
在n-漂移層120、p體區(qū)域130及n+源極區(qū)域140的表面形成了溝道外延層150。此外,在溝道外延層150上形成了柵極絕緣膜160及柵極電極165。在溝道外延層150中的與p體區(qū)域130的上表面相接的部分形成溝道區(qū)域。在n+基板110的背面形成了漏極電極170。
半導(dǎo)體元件1100中內(nèi)置有體二極管180。即,通過p體區(qū)域130與n-漂移層120之間的pn結(jié)形成了體二極管180。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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