[發明專利]氣體混合裝置

有效

• 申請號: 201310092147.3
• 申請日: 2013-01-25
• 公開（公告）號: CN103223310A
• 公開（公告）日: 2013-07-31
• 發明（設計）人: A·M·塔比赫;A·E·M·耶姆貝里
• 申請（專利權）人: 阿爾斯通技術有限公司
• 主分類號: B01F5/00
• 分類號: B01F5/00;B01F3/02;B01D53/76;B01D53/86;B01D53/56
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李強;嚴志軍

1.一種用于混合過程設備的過程氣體(MF)的氣體混合裝置，包括：

用于使所述過程氣體流過的氣體導管(10a)；

布置在所述氣體導管(10a)中的混合板區段(24)，其包括至少一個混合板(42、44)，所述至少一個混合板(42、44)布置成相對于流過所述氣體導管(10a)的所述過程氣體的主流向(C)成角度(α⁺、α^-)；以及

導葉區段(22)，其布置在所述混合板區段(24)的上游以與所述導葉區段(22)協作來混合流過所述氣體導管(10a)的所述過程氣體(MF)，其中，所述導葉區段(22)包括：

布置成沿朝向所述氣體導管(10a)的第一側壁(34)的方向引導第一氣流部分(GP1)的第一組導葉(26)；以及

布置成沿朝向所述氣體導管(10a)的第二側壁(36)的方向引導第二氣流部分(GP2)的第二組導葉(28)，所述第二側壁(36)與所述第一側壁(34)相對。

2.根據權利要求1所述的氣體混合裝置，其特征在于，所述第一組導葉(26)的導葉(30)布置成基本垂直于所述主流向(C)而延伸的第一導葉排(38)，并且，所述第二組導葉(28)的導葉(32)布置成基本垂直于通過所述氣體導管(10a)的所述主流向(C)而延伸的第二導葉排(40)。

3.根據權利要求2所述的氣體混合裝置，其特征在于，所述第一導葉排(38)和所述第二導葉排(40)彼此基本平行地布置。

4.根據權利要求1所述的氣體混合裝置，其特征在于，所述導葉區段(122)包括至少另外一組導葉(139)，所述至少另外一組導葉(139)布置成沿朝向所述氣體導管(110a)的所述第一側壁(134)和所述第二側壁(136)中的任一個的方向引導第三氣流部分(GP3)。

5.根據權利要求1所述的氣體混合裝置，其特征在于，還包括布置在所述第一導葉區段(122)的下游的至少另外一個導葉區段(122′、122″、123)。

6.根據權利要求1所述的氣體混合裝置，其特征在于，各組導葉(26、28)包括具有曲線形狀的至少一個導葉(30、32)。

7.根據權利要求1所述的氣體混合裝置，其特征在于，彼此相鄰地布置的成組的導葉(26、28)關于通過所述氣體導管(10a)的所述主流向(C)部分地交迭。

8.根據權利要求1所述的氣體混合裝置，其特征在于，沿所述氣體導管(10a)的所述主流向(C)測量的在所述混合板區段(24)和所述導葉區段(22)之間的距離(L1)小于15m。

9.根據權利要求1所述的氣體混合裝置，其特征在于，所述混合板區段(24)包括多個混合板(42、44)，如關于通過所述氣體導管(10a)的所述主流向(C)看到的那樣，所述多個混合板(42、44)在所述氣體導管(10a)中布置所述氣體導管(10a)的橫截面上。

10.根據權利要求9所述的氣體混合裝置，其特征在于，所述多個混合板(42、44)布置成第一混合板排(43)，并且所述混合板排(43)的相鄰的混合板(42、44)交替地布置成相對于通過所述氣體導管(10a)的所述主流向(C)成正角度(α⁺)和成負角度(α^-)。

11.根據權利要求10所述的氣體混合裝置，其特征在于，所述混合板區段(124)還包括第二混合板排(145)，所述第一混合板排(143)和所述第二混合板排(145)關于所述氣體導管(110a)的橫截面對稱地布置。

12.根據權利要求1所述的氣體混合裝置，其特征在于，所述至少一個混合板(42、44)具有三角形形狀。

13.根據權利要求1所述的氣體混合裝置，其特征在于，所述至少一個成角度的混合板(42、44)的主表面沿所述氣體導管的流向在所述氣體導管的橫截面上提供占所述氣體導管(10a)的橫截面面積的30-50％、35-45％或38-42％的投影面積。

14.一種還原劑供應系統，包括還原劑噴射系統(6)和根據權利要求1所述的氣體混合裝置(20)。

15.根據權利要求14所述的還原劑供應系統，其特征在于，所述還原劑噴射系統(6)沿所述氣體導管(10a)的主流向布置在所述氣體混合裝置(20)的上游。