[發(fā)明專(zhuān)利]耐磨工件及其耐磨鍍層的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310092108.3
• 申請(qǐng)日: 2013-03-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103132114A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏靜
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 湖南特力液壓有限公司;中聯(lián)重科股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C25D5/12
• 分類(lèi)號(hào): C25D5/12;C25D5/18;C25D3/16;C25D3/04
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 吳貴明;張永明

1.一種耐磨鍍層的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

采用雙脈沖法在預(yù)備件表面鍍鎳，形成鍍鎳過(guò)渡件；

在所述鍍鎳過(guò)渡件的表面鍍硬鉻層，從而在所述預(yù)備件的表面形成所述耐磨鍍層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，采用雙脈沖法在所述預(yù)備件表面鍍鎳的步驟包括：

將所述預(yù)備件浸漬到第一含鎳電解液中，控制所述第一含鎳電解液的溫度為50～60℃，pH為4.5～5.0；

控制所述雙脈沖鍍鎳法中正向平均電流密度為12～18A/dm²，正向周期為5～15ms；

控制所述雙脈沖鍍鎳法中反向平均電流密度為1.8～4.8A/dm²，反向周期為0.5～2ms；

在上述條件下對(duì)所述預(yù)備件進(jìn)行10～20min的電鍍，形成厚度為10-30μm的鎳層，獲得所述鍍鎳過(guò)渡件。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制造方法，其特征在于，采用雙脈沖法在所述預(yù)備件表面鍍鎳的步驟進(jìn)一步包括：

控制所述雙脈沖鍍鎳法中正向脈沖電流密度為24～36A/dm²，正向占空比為40～60%；

控制所述雙脈沖鍍鎳法中反向脈沖電流密度為6～16A/dm²，反向占空比為20～40%。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的制造方法，其特征在于，所述第一含鎳電鍍液包括如下組分：250～310g/l的六水合硫酸鎳、10～55g/l的氯化鎳、10～55g/l的硼酸、0.1～0.5g/l的十二烷基硫酸鈉、0.2～0.6g/l的丁炔二醇、以及0.2～1.5g/l的糖精。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述鍍鎳過(guò)渡件的表面鍍硬鉻層的步驟進(jìn)一步包括：將所述鍍鎳過(guò)渡件浸漬到溫度為55～65℃的含鉻電解液，并向所述含鉻電解液中通入電流密度為20～50A/dm²的電流，電鍍30～80min，形成厚度為20-40μm的硬鉻層，獲得所述耐磨鍍層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在所述鍍鎳過(guò)渡件的表面鍍硬鉻層的步驟采用單脈沖法進(jìn)行鍍硬鉻，包括以下步驟：

將所述鍍鎳過(guò)渡件浸漬到溫度為55～65℃的含鉻電解液中；

控制所述單脈沖法中的脈沖電流密度為20～50A/dm²，導(dǎo)通時(shí)間為10～20s，關(guān)斷時(shí)間為5～15ms；

在上述條件下對(duì)所預(yù)備件進(jìn)行30～80min的電鍍，形成厚度為20～40μm的硬鉻層，獲得所述耐磨鍍層。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述鍍鎳過(guò)渡件的表面鍍硬鉻層的步驟采用雙脈沖法進(jìn)行鍍硬鉻，包括以下步驟：

將所述鍍鎳過(guò)渡件浸漬到溫度為55～65℃的含鉻電解液中；

控制所述雙脈沖法中正向脈沖電流密度為20～50A/dm²，正向周期為10～20s；

控制所述雙脈沖法中反向脈沖電流密度與正向脈沖電流密度相同，反向周期為5～15ms；

在上述條件下對(duì)所述預(yù)備件進(jìn)行30～80min的電鍍，形成厚度為20～40μm的硬鉻層，獲得所述耐磨鍍層。

8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的制造方法，其特征在于，所述含鉻電解液包括如下組分：200～300g/l的鉻酸酐、2.0～3.5g/l的硫酸、2～4g/l的三價(jià)鉻、20ml/l的添加劑。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的制造方法，其特征在于，在所述鍍鎳過(guò)渡件的表面鍍硬鉻層之前還包括，在所述鍍鎳過(guò)渡件的表面鍍光亮鎳的步驟，鍍光亮鎳的步驟包括：

將所述鍍鎳過(guò)渡件放入溫度為50～60℃、pH為4.5～5的第二含鎳電解液中、向第二含鎳電解液中通入電流密度為3～6A/dm²的電流，電鍍5～15min，形成8～12μm的光亮鎳層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述第二含鎳電解液包括以下組分：250～310g/l的六水合硫酸鎳、10～55g/l的硼酸、0.1～0.4ml/l的光亮劑、4～10ml/l的柔軟劑、1～3ml/l的濕潤(rùn)劑。