[發(fā)明專利]潤滑劑供給裝置、成像設(shè)備和處理盒

有效

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• 申請日: 2013-03-20
• 公開（公告）號: CN103324068A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 藤森彰;羽鳥聰;熊谷直洋;吉野薰;關(guān)秀康;后藤良太;新谷剛史;田口信幸;二宮弘道;工藤經(jīng)生;本城賢二;畔柳雄太
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社理光
• 主分類號: G03G21/00
• 分類號: G03G21/00;G03G21/18;G03G15/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 王冉

1.一種潤滑劑供給裝置，包括：

固態(tài)潤滑劑；

供給元件，該供給元件將固態(tài)潤滑劑的潤滑劑供給到潤滑劑供給目標(biāo)；以及

剩余量探測單元，該剩余量探測單元探測所述固態(tài)潤滑劑的量處于給定量或更小，其中：

所述剩余量探測單元相對于所述固態(tài)潤滑劑設(shè)置在所述供給元件的摩擦方向的下游側(cè)上。

2.如權(quán)利要求1所述的潤滑劑供給裝置，其中：

所述剩余量探測單元探測隨著所述固態(tài)潤滑劑的消耗而移動的被探測部分到達(dá)給定位置，由此探測所述固態(tài)潤滑劑的剩余量處于給定量或更小。

3.如權(quán)利要求2所述的潤滑劑供給裝置，還包括：

容納固態(tài)潤滑劑的容納殼體，其中：

所述剩余量探測單元設(shè)置在該容納殼體的外側(cè)。

4.如權(quán)利要求3所述的潤滑劑供給裝置，其中：

所述容納殼體具有開口，所述被探測部分穿過該開口，且

提供了蓋，其覆蓋所述剩余量探測單元和所述開口。

5.如權(quán)利要求2所述的潤滑劑供給裝置，其中，所述剩余量探測單元包括：

第一電極元件，以及

第二電極元件，所述第二電極元件通過被所述被探測部分直接或間接壓向所述第一電極元件而抵靠第一電極元件，且

探測所述第一電極元件和第二電極元件之間的電導(dǎo)通，以探測所述固態(tài)潤滑劑的剩余量處于給定量或更小。

6.如權(quán)利要求5所述的潤滑劑供給裝置，其中：

所述剩余量探測單元包括設(shè)置成可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)元件，

所述被探測部分隨著所述固態(tài)潤滑劑的消耗而施壓所述旋轉(zhuǎn)元件，且

在跨過旋轉(zhuǎn)元件的旋轉(zhuǎn)支點(diǎn)與旋轉(zhuǎn)元件和被探測部分的抵靠位置的相對側(cè)處，第一電極元件抵靠第二電極元件。

7.如權(quán)利要求2所述的潤滑劑供給裝置，其中，所述被探測部分是設(shè)置在保持固態(tài)潤滑劑的潤滑劑保持元件上的突出部分。

8.如權(quán)利要求2所述的潤滑劑供給裝置，還包括：

一對擺動元件，該對擺動元件

被容納固態(tài)潤滑劑的容納殼體支撐而可自由擺動且

在保持固態(tài)潤滑劑的潤滑劑保持元件上滑動的同時(shí)擺動；

或者

被容納固態(tài)潤滑劑的容納殼體支撐而可自由擺動且

在容納殼體的與潤滑劑保持元件相對的表面上滑動的同時(shí)擺動；

偏壓單元，該偏壓單元偏壓所述一對擺動元件；以及

加壓機(jī)構(gòu)，其中通過該偏壓單元的偏壓力，所述擺動元件在容納殼體的內(nèi)周表面上或在潤滑劑保持元件上滑動的同時(shí)擺動，以將所述固態(tài)潤滑劑壓在所述供給元件上，其中：

所述剩余量探測單元探測安裝到所述擺動元件上的被探測部分。

9.如權(quán)利要求8所述的潤滑劑供給裝置，其中，所述剩余量探測單元包括電極元件，在所述固態(tài)潤滑劑為給定量或更小時(shí)該電極元件抵靠在導(dǎo)電的被探測部分上，并且所述電極元件和所述被探測部分之間的電導(dǎo)通被探測，以便檢測所述固態(tài)潤滑劑的剩余量為給定量或更小。

10.一種成像設(shè)備，包括：

圖像載體；以及

將潤滑劑供給到圖像載體的表面上的潤滑劑供給單元，其中

所述成像設(shè)備將圖像載體上的圖像轉(zhuǎn)印到記錄材料上，以在該記錄材料上形成圖像，且

所述潤滑劑供給單元是如權(quán)利要求1所述的潤滑劑供給裝置。

11.一種處理盒，包括：

圖像載體；以及

將潤滑劑供給到圖像載體的表面上的潤滑劑供給單元，其中

所述處理盒被構(gòu)造成可拆卸地安裝到成像設(shè)備的主體上，且

所述潤滑劑供給單元是如權(quán)利要求1所述的潤滑劑供給裝置。