[發(fā)明專利]一種高性能電解銅箔的制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310089607.7 | 申請日： | 2013-03-20 |
| 公開（公告）號： | CN103132110A | 公開（公告）日： | 2013-06-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李德清;車曉舟 | 申請（專利權(quán)）人： | 清新縣聯(lián)鑫科技銅箔有限公司 |
| 主分類號： | C25D1/04 | 分類號： | C25D1/04 |
| 代理公司： | 廣州市南鋒專利事務(wù)所有限公司 44228 | 代理人： | 劉媖 |
| 地址： | 511553 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 性能 電解 銅箔 制備 方法 | ||
1.一種高性能電解銅箔的制備方法，其特征在于包括如下步驟和工藝條件：
?????第一步，電解液位于陰極輥筒和陽極板之間，在生箔機(jī)的陰極輥筒和陽極板上設(shè)置磁極，在陰極輥筒和陽極板之間形成附加磁場；
????第二步，陰極輥筒開始轉(zhuǎn)動(dòng)，陰極輥筒的轉(zhuǎn)速為2～10米/分，電流密度為3500～8000A/m2，電解液溫度為50～70℃，在電場和磁場共同作用下在陰極輥筒的表面結(jié)晶生成連續(xù)的電解銅箔，再將生成的電解銅箔從陰極輥筒上剝離即可。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能電解銅箔的制備方法，其特征在于：所述附加磁場作用于銅箔開始結(jié)晶到剝離的整個(gè)沉積過程。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能電解銅箔的制備方法，其特征在于：所述附加磁場強(qiáng)度從0T到1.4T可調(diào)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能電解銅箔的制備方法，其特征在于：所述附加磁場方向與沉積電場方向相對取向角度從0°到80°可調(diào)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高性能電解銅箔的制備方法，其特征在于：所述陰極輥筒轉(zhuǎn)速為6米/分。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高性能電解銅箔的制備方法，其特征在于：所述電流密度為5500A/m2。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高性能電解銅箔的制備方法，其特征在于：所述電解液溫度為60℃。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清新縣聯(lián)鑫科技銅箔有限公司，未經(jīng)清新縣聯(lián)鑫科技銅箔有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310089607.7/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
