[發(fā)明專利]石墨膜及石墨復(fù)合膜

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310087420.3
• 申請(qǐng)日: 2008-05-15
• 公開（公告）號(hào): CN103144387A
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 太田雄介;若原修平;西川泰司
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社鐘化
• 主分類號(hào): B32B27/06
• 分類號(hào): B32B27/06;B32B9/04
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 周欣;陳建全

1.一種石墨膜，其特征在于：采用掃描式電子顯微鏡，在5kV的加速電壓下對(duì)所述石墨膜進(jìn)行表面觀察，以能夠觀察該石墨膜的表面的折皺的方式調(diào)節(jié)亮度、對(duì)比度、焦距，按640×480攝入倍率為400倍的表面SEM圖像，

對(duì)于所述表面SEM圖像，使用通用圖像處理軟件實(shí)施濃度測(cè)定，得到測(cè)定值從最小值0到最大值255為止的圖像，對(duì)該圖像按通過下式?jīng)Q定的閾值進(jìn)行黑白二值化，即

閾值＝（最大值－最小值）×0.62????（1）

進(jìn)而將被二值化了的該圖像的白色區(qū)域按線寬為1進(jìn)行細(xì)線化后，所得到的圖像的白色區(qū)域的面積為1.0%以上且8.5%以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨膜，其特征在于：所述通用圖像處理軟件是從NANO?System株式會(huì)社得到的通用圖像處理軟件。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨膜，其特征在于：所述掃描式電子顯微鏡是日立制S-4500型掃描式電子顯微鏡。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的石墨膜，其特征在于：所述表面觀察的條件是：將各種石墨膜裁切成5mm×5mm，用導(dǎo)電性膠帶將其固定在試樣臺(tái)上，將加速電壓調(diào)到5kV，實(shí)施400倍的觀察。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的石墨膜，其特征在于：在所述表面SEM圖像的拍攝時(shí)，工作距離調(diào)節(jié)為8mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的石墨膜，其特征在于：所述石墨膜是通過在2000℃以上的溫度下對(duì)由高分子膜及／或碳化了的高分子膜形成的原料膜進(jìn)行熱處理而得到的石墨膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的石墨膜，其特征在于：對(duì)經(jīng)過所述熱處理而得到的石墨膜進(jìn)行壓縮處理，在石墨膜表面的凹凸的邊界處石墨層重合，形成邊界線。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的石墨膜，其特征在于：被所述邊界線區(qū)分的區(qū)域的面積的平均值為25μm²以上且10000μm²以下。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的石墨膜，其特征在于：被所述邊界線區(qū)分的區(qū)域的面積的平均值為100μm²以上且6400μm²以下。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的石墨膜，其特征在于，所述白色區(qū)域的面積為1.2%以上且6.5%以下。