[發明專利]一種磷精礦脫除低濃度二氧化硫的裝置及其使用方法無效
| 申請號: | 201310086425.4 | 申請日: | 2013-03-19 |
| 公開(公告)號: | CN103143253A | 公開(公告)日: | 2013-06-12 |
| 發明(設計)人: | 楊毅;楊德貴;周智武;趙建勇;饒軼晟;呂玉濤;宋光輝 | 申請(專利權)人: | 甕福(集團)有限責任公司 |
| 主分類號: | B01D53/80 | 分類號: | B01D53/80;B01D53/50 |
| 代理公司: | 貴陽中工知識產權代理事務所 52106 | 代理人: | 王蕊 |
| 地址: | 550002 貴州省貴陽*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 精礦 脫除 濃度 二氧化硫 裝置 及其 使用方法 | ||
技術領域
本發明涉及硫化合物,具體是磷精礦吸收低濃度二氧化硫的凈化處理裝置以及其使用方法。
背景技術
硫酸生產排放尾氣中主要包括二氧化硫氣體、硫酸酸霧等,隨著硫酸工業的迅猛發展,也導致全球酸雨現象十分嚴重。為了實現減排,我國率先在高污染、高排放行業進行限制,其中就包括硫酸制造行業?,F有脫硫技術存在投資大、運行費用高,管道易腐蝕,工藝流程復雜,操作運行繁雜,如果對條件控制不好同樣會產生另一種排放物等問題。在硫酸生產原設計二氧化硫排放標準為300PPm,已不能在滿足新國標400mg/?NM3(折算值≤140PPm)的排放標準。為此必須對裝置進行改造實施。針對存在的情況采用磷精礦脫硫能夠解決以上問題。
對于低濃度二氧化硫處理問題,人們研究了一些技術方案,已經申請中國專利的有200610011003.0號《磷礦漿催化氧化脫除低濃度二氧化硫的方法》進行了相關介紹。但在二水法磷酸生產過程磷礦漿濃度低后可能會造成磷酸生產過程中磷收率過低、生產磷酸濃度達不到相關要求等問題出現,發明人經過試驗,結合實際的生產提供了本裝置,控制磷礦漿的加入固含量,同時也考慮了磷礦漿的輸送問題。
發明內容
本發明的目的在于提供一種磷精礦脫除低濃度二氧化硫的裝置及其使用方法,以解決硫酸生產過程中低濃度二氧化硫的排放達到國家新的排放標準。
發明人提供的一種磷精礦脫除低濃度二氧化硫的裝置包括:磷礦漿循環槽和二氧化硫洗滌塔;所述磷礦漿循環槽內設有循環槽攪拌器和pH控制計,磷礦漿循環槽與二氧化硫洗滌塔之間的管道上設有噴淋泵;所述二氧化硫洗滌塔的上部設有設有除沫器,頂部設有廢氣出口,二氧化硫洗滌塔塔內上部設有噴淋霧化噴頭,二氧化硫洗滌塔塔內下部設有漿液槽,漿液槽的出口設有管道并通過漿液輸送泵連通到磷礦漿循環槽;磷礦漿循環槽設有管道通過輸送泵連通到磷酸生產車間。
所述二氧化硫洗滌塔的廢氣出口處設有二氧化硫排放檢測儀。
具體使用方法為:將低濃度二氧化硫氣體與來自磷礦漿循環槽的磷礦漿在二氧化硫洗滌塔中進行循環洗滌,洗滌后的氣體經除沫器后排放;漿液槽將洗滌后的漿液通過漿液輸送泵送回磷礦漿循環槽,漿液循環使用,在使用過程中漿液是否排放是受排放二氧化硫氣體的濃度和漿液的pH值進行確定。當磷礦漿循環槽中的礦漿pH值小于4時,二氧化硫的洗滌率一般都低于80%,pH控制計控制礦漿排出并通過輸送泵輸送到磷酸生產車間,同時加入新鮮漿液,以維持磷礦漿循環槽內的礦漿pH值在以上。
采用本發明能夠處理低濃度二氧化硫尾氣,裝置結構簡單、投資少、操作方便且不帶入另一種排放物。能夠滿足新國標400mg/?NM3(折算值≤140PPm)的排放標準。
附圖說明
圖1為本發明的結構示意圖。
圖中:1-磷礦漿循環槽;2-循環槽攪拌器;3-噴淋泵;4-二氧化硫洗滌塔;5-pH控制計;6-噴淋霧化噴頭;7-除沫器;8-磷酸生產車間;9-漿液輸送泵;10-輸送泵;11-漿液槽;13-廢氣出口。
具體實施方式
實施例
一種磷精礦脫除低濃度二氧化硫的裝置,包括磷礦漿循環槽1和二氧化硫洗滌塔4;所述磷礦漿循環槽1內設有循環槽攪拌器2和pH控制計5,磷礦漿循環槽1與二氧化硫洗滌塔4之間的管道上設有噴淋泵3;所述二氧化硫洗滌塔4的上部設有設有除沫器7,頂部設有廢氣出口13,二氧化硫洗滌塔4塔內上部設有噴淋霧化噴頭6,二氧化硫洗滌塔4塔內下部設有漿液槽11,漿液槽11的出口設有管道并通過漿液輸送泵9連通到磷礦漿循環槽1;磷礦漿循環槽1設有管道通過輸送泵10連通到磷酸生產車間8。
所述二氧化硫洗滌塔的廢氣出口13處設有二氧化硫排放檢測儀。
使用時,將低濃度二氧化硫氣體與來自磷礦漿循環槽1的磷礦漿在二氧化硫洗滌塔4中進行循環洗滌,洗滌后的氣體經除沫器7后排放;漿液槽將洗滌后的漿液通過漿液輸送泵9送回磷礦漿循環槽1,漿液循環使用,當磷礦漿循環槽1中的礦漿pH值小于4時,pH控制計5控制礦漿排出并通過輸送泵10輸送到磷酸生產車間8,同時加入新鮮漿液,以維持磷礦漿循環槽1內的礦漿pH值在4以上。?
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