[發明專利]泄水建筑物摻氣水流水面高程的測量方法

有效

• 申請號: 201310083034.7
• 申請日: 2013-03-15
• 公開（公告）號: CN103148836A
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 戴曉兵
• 申請（專利權）人: 中國水電顧問集團中南勘測設計研究院
• 主分類號: G01C5/00
• 分類號: G01C5/00
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113
• 代理人: 盧宏;李發軍

1.一種泄水建筑物摻氣水流水面高程的測量方法，其特征在于，包括下列步驟：

1）根據泄水建筑物泄槽下泄的水流流量Q和流速V，初步計算測量斷面處的水深和摻氣水深其中b為泄槽槽寬，ζ為修正系數，可取1.0s/m～1.4s/m；在所述泄槽的側墻上安裝不少于3個高摻氣濃度傳感器，且這些高摻氣濃度傳感器布置在水深h到摻氣水深h_b段之間摻氣水流的表層區域；

2）對高摻氣濃度傳感器的每個電極組依次進行現場率定，建立每個電極組各自的摻氣濃度與摻氣電阻的函數關系；

3）在實際測量時，測讀每個電極組的摻氣濃度值c_i，然后對摻氣濃度值c_i進行校驗和修正；

4）根據修正后的摻氣濃度c_i分析判斷水流的水面高程、水霧流高程和氣霧流高程，以摻氣濃度為50%的位置作為水面高程，以摻氣濃度為66.67%的位置作為水霧流高程，以摻氣濃度為83.33%的位置作為氣霧流高程。

2.根據權利要求1所述的泄水建筑物摻氣水流水面高程的測量方法，其特征在于，步驟4）中，將水霧流高程作為側墻結構設計的水面高程。

3.根據權利要求1所述的泄水建筑物摻氣水流水面高程的測量方法，其特征在于，步驟3）中，對實際摻氣濃度值c_i校驗和修正方法為采用同一傳感器測得多個獨立的數據，去掉不合理的點，然后取平均值。

4.根據權利要求1所述的泄水建筑物摻氣水流水面高程的測量方法，其特征在于，所述高摻氣濃度傳感器的結構為，包括面板（3），鑲嵌在面板（3）上的多個電極片（1），每個電極片（1）與一根相應的引出線（2）相連；其特征在于，所述電極片（1）至少為三個。

5.根據權利要求4所述的泄水建筑物摻氣水流水面高程的測量方法，其特征在于，所述電極片（1）的橫截面為扁平的長方形，相鄰兩個電極片（1）平行且間距相等。

6.根據權利要求4所述的泄水建筑物摻氣水流水面高程的測量方法，其特征在于，相鄰電極片（1）之間的清水電阻值為100Ω～200Ω。

7.根據權利要求4所述的泄水建筑物摻氣水流水面高程的測量方法，其特征在于，所述面板（3）上開有與通用底座對應的螺絲孔（4）。

8.根據權利要求4所述的泄水建筑物摻氣水流水面高程的測量方法，其特征在于，所述面板（3）為絕緣材料制成。

9.根據權利要求4所述的泄水建筑物摻氣水流水面高程的測量方法，其特征在于，所述電極片（1）有3～5個。