[發明專利]樣本制備裝置和樣本制備方法

無效

• 申請號: 201310083008.4
• 申請日: 2013-03-15
• 公開（公告）號: CN103308356A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發明（設計）人: 滿欣
• 申請（專利權）人: 日本株式會社日立高新技術科學
• 主分類號: G01N1/28
• 分類號: G01N1/28;H01J37/317;H01J37/28
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

1.一種樣本制備裝置，所述樣本制備裝置包括：

樣本臺，所述樣本臺用于支撐樣本；

聚焦離子束鏡筒，所述聚焦離子束鏡筒用于將聚焦離子束施加到所述樣本并且對所述樣本進行處理；以及

照射區域設置單元，所述照射區域設置單元用于設置聚焦離子束照射區域，所述聚焦離子束照射區域包括：

第一照射區域，所述第一照射區域用于形成將被電子束照射以檢測背向散射電子的觀察區段；以及

第二照射區域，所述第二照射區域用于形成傾斜表面，所述傾斜表面連接到所述觀察區段和所述樣本的表面，并且相對于所述觀察區段的法線方向以67.5°以上且小于90°的角度傾斜。

2.根據權利要求1所述的樣本制備裝置，

其中，所述第二照射區域是用于形成與所述觀察區段相鄰的一對傾斜表面的照射區域。

3.根據權利要求1所述的樣本制備裝置，

其中，所述第二照射區域是用于形成與所述觀察區段相鄰的四個傾斜表面的照射區域。

4.根據權利要求1所述的樣本制備裝置，所述樣本制備裝置進一步包括：

電子束鏡筒，所述電子束鏡筒用于施加電子束；以及

散射電子檢測器，所述散射電子檢測器用于檢測從被所述電子束照射的樣本發射的背向散射電子。

5.根據權利要求4所述的樣本制備裝置，

其中，所述照射區域設置單元用于設置聚焦離子束照射區域以將電子束施加到所述觀察區段。

6.根據權利要求4所述的樣本制備裝置，

其中，所述聚焦離子束鏡筒被布置為使得所述聚焦離子束和所述電子束以直角相交叉。

7.一種樣本制備方法，所述樣本制備方法用于制備用于觀察背向散射電子的衍射圖案的樣本，所述方法包括：

通過向所述樣本施加聚焦離子束來形成觀察區段，所述觀察區段將被電子束照射以檢測所述背向散射電子；以及

通過向所述樣本施加所述聚焦離子束來形成傾斜表面，所述傾斜表面連接到所述觀察區段和所述樣本的表面，并且相對于所述觀察區段的法線以67.5°以上且小于90°的角度傾斜。

8.根據權利要求7所述的樣本制備方法，

其中，形成所述觀察區段的步驟和形成所述傾斜表面的步驟包括從相對于所述觀察區段的垂直方向向所述樣本施加所述聚焦離子束。

9.根據權利要求8所述的樣本制備方法，

其中，形成所述觀察區段的步驟包括將第一劑量的聚焦離子束施加到所述樣本，并且

形成所述傾斜表面的步驟包括施加第二劑量的聚焦離子束，隨著相對于所述觀察區段的距離增大，所述第二劑量變得小于所述第一劑量。

10.根據權利要求7所述的樣本制備方法，

其中，形成所述觀察區段的步驟和形成所述傾斜表面的步驟包括從相對于所述觀察區段的法線方向和所述電子束的束軸方向的垂直方向對所述樣本施加所述聚焦離子束。

11.根據權利要求10所述的樣本制備方法，

其中，形成所述觀察區段的步驟包括將第一劑量的聚焦離子束施加到所述樣本，并且

其中，形成所述傾斜表面的步驟包括施加第二劑量的聚焦離子束，隨著相對于所述觀察區段的距離增大，所述第二劑量變得大于所述第一劑量。