[發明專利]一種碳化鈦/氮化鈦納米多層涂層葉輪及其制備方法

有效

• 申請號: 201310082498.6
• 申請日: 2013-03-15
• 公開（公告）號: CN103158296A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 楊鎮寧;劉長霞;孫軍龍;王亮申;李剛;田忠民;孫憲剛
• 申請（專利權）人: 煙臺魯東泵業有限公司
• 主分類號: B32B15/04
• 分類號: B32B15/04;B32B9/04;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/32;C23C14/16
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1.一種碳化鈦/氮化鈦納米多層涂層葉輪及其制備方法，葉輪基體3材料為25鋼，其特征在于：涂層為納米碳化鈦和氮化鈦，葉輪基體表面為氮化鈦涂層1，葉輪基體3與氮化鈦涂層1之間含有一層黏性碳化鈦過渡層2。

2.根據權利要求1所述一種碳化鈦/氮化鈦納米多層涂層葉輪及其制備方法，其特征在于：沉積方式為電弧離子鍍沉積300~400nm的碳化鈦過渡層，然后沉積厚度為400~500nm的氮化鈦，具體步驟如下：

(1)?前處理：采用水砂紙將葉輪基體表面拋光，去除表面油污、銹跡等雜質，采用封閉式噴砂機對拋光后的葉輪基體進行噴砂粗化處理，并用流體拋光機拋光去除表面的磁性，然后依次放入酒精和丙酮中，在50~60℃的溫度下超聲波清洗各30min，放入烘箱干燥20min后迅速放入鍍膜機，抽真空至5.0×10^-3Pa，加熱至400℃，保溫25~30min；

(2)?離子清洗：通氬氣，其壓力為2Pa，開啟偏壓電源，電壓800V，占空比0.2，輝光放電清洗35min；降低偏壓至600V，占空比0.2，開啟離子源離子清洗25min，開啟鈦靶的電弧源，偏壓400V，靶電流80A，離子轟擊鈦靶5min；

(3)?沉積碳化鈦過渡層：氬氣氣壓0.5Pa，偏壓降至300V，沉積溫度350℃，鈦靶電流70A，碳靶電流80A，電弧鍍碳化鈦過渡層15min；

(4)?沉積氮化鈦層，氬氣氣壓0.5Pa，偏壓200V，沉積溫度300℃，鈦靶電流90A，反應氣體氮氣壓力為0.8Pa，電弧鍍氮化鈦層20min；

(5)?后處理：關閉各電源，離子源及氣體源，涂層結束。