[發明專利]光源光強均一性測調系統及測調方法有效
| 申請號: | 201310081790.6 | 申請日: | 2013-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN103196554A | 公開(公告)日: | 2013-07-10 |
| 發明(設計)人: | 井楊坤 | 申請(專利權)人: | 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G01J1/58 | 分類號: | G01J1/58 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 韓國勝 |
| 地址: | 230011 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光源 均一 性測調 系統 方法 | ||
1.一種光源光強均一性測調系統,其特征在于,包括:光強測試板、光源、圖像采集模塊、微處理器和控制模塊;
所述光強測試板包括第一基板、第二基板以及位于兩基板之間的光致變色材料;
所述光源用于向所述光強測試板照射光;
所述圖像采集模塊用于采集光強測試板的色差變化圖像;
所述微處理器與所述圖像采集模塊連接,接收所述色差變化圖像并將色差變化圖像與微處理器內部存儲的比色標準進行比較,獲得所述光強測試板整個面的光強分布,判斷光源所發出的光強均一性情況;
所述微處理器通過所述控制模塊與所述光源連接,根據判斷結果由所述控制模塊對光源的光強進行調整。
2.如權利要求1所述的光源光強均一性測調系統,其特征在于,所述光強測試板的第一基板一面上鍍有氫氧化鎳薄膜,所述第二基板一面上鍍有二氧化鈦薄膜,所述兩基板的鍍膜面相貼附;所述光源為紫外光源。
3.如權利要求2所述的光源光強均一性測調系統,其特征在于,還包括:
探測器,與所述微處理器相連,測量所述光源照射的光強信息,將所述光強信息傳送至所述微處理器,以校正微處理器內存儲的所述比色標準。
4.如權利要求3所述的光源光強均一性測調系統,其特征在于,所述探測器有多個,間隔分布在所述光強測試板放置區域上方,對所述光源照射的光強信息進行多點采集。
5.如權利要求3所述的光源光強均一性測調系統,其特征在于,所述探測器與所述微處理器之間通過信號處理模塊連接,所述信號處理模塊對探測器采集的多點光強信息進行分析處理,將所述探測器所采集的光強值和位置值傳送至微處理器。
6.一種光源光強均一性測調方法,其特征在于,包括以下步驟:
獲取色差變化圖像;
將所述色差變化圖像與比色標準進行比較,獲得光強信息,并判斷該光強信息均一性情況;
根據判斷結果,調整光源光強。
7.如權利要求6所述的光源光強均一性測調方法,其特征在于,所述色差變化圖像是一個時間段內連續采集獲得。
8.如權利要求7所述的光源光強均一性測調方法,其特征在于,分析處理所述色差變化圖像,獲得光強信息,并判斷該光強信息均一性情況包括將所述色差變化圖像與比色標準進行對照,獲得各個位置值所對應的光強值、以及各個位置值所對應的光強值隨時間變化的曲線。
9.如權利要求8所述的光源光強均一性測調方法,其特征在于,還包括以下步驟:測量光源照射的光強信息,以對所述比色標準進行校正。
10.如權利要求6所述的光源光強均一性測調方法,其特征在于,根據判斷結果,調整光源光強包括調整供應電壓來調整光源光強。
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