[發(fā)明專利]一種氣水快速混合的臭氧接觸反應池有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310081641.X | 申請日： | 2013-03-15 |
| 公開（公告）號： | CN104045146B | 公開（公告）日： | 2017-06-20 |
| 發(fā)明（設計）人： | 陳健;王梅燕 | 申請（專利權(quán)）人： | 福建新大陸環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號： | C02F1/78 | 分類號： | C02F1/78 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 350015 *** | 國省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 快速 混合 臭氧 接觸 反應 | ||
1.一種氣水快速混合的臭氧接觸反應池，包含一個臭氧接觸反應池（1）和曝氣裝置(2)，所述接觸反應池(1)包含進流口(11)和出流口(12)，其特征在于：所述接觸反應池 (1)內(nèi)設置臭氧曝氣裝置(2)、若干個自臭氧接觸反應池頂部由上而下延伸的第一導流墻(3)和若干個自臭氧接觸反應池底部由下而上延伸的第二導流墻(4)，每個第一導流墻(3)設置于相鄰的兩個第二導流墻(4)之間，所述第一導流墻沿水流方向的橫截面是一個寬度較大的墻體，所述第一導流墻(3)的底部敞開與臭氧接觸池底部之間形成一個窄的水流通道(6)，所述第二導流墻(4)的頂部敞開與臭氧接觸池頂部之間形成一個水流通道，所述曝氣裝置(2)設在第一導流墻(3)的下方，臭氧曝氣裝置（2）與第一導流墻（3）的下表面之間存在間隙（5）, 沿水流方向，第二導流墻(4)設在靠近其上游端的第一導流墻(3)的位置。
2.如權(quán)利要求1所述的臭氧接觸反應池，其特征在于：所述第一導流墻（3）的下方設置若干組臭氧曝氣裝置（2）。
3.如權(quán)利要求1所述的臭氧接觸反應池，其特征在于：部分第一導流墻（3）的下方設置臭氧曝氣裝置（2）。
4.如權(quán)利要求1所述的臭氧接觸反應池，其特征在于：每個第一導流墻（3）的下方設置臭氧曝氣裝置（2）。
5.如權(quán)利要求1所述的臭氧接觸反應池，其特征在于：所述第一導流墻為實心或空心墻體。
6.如權(quán)利要求1所述的臭氧接觸反應池，其特征在于：所述第一導流墻（3）沿水流方向的橫截面為長方形。
7.如權(quán)利要求1所述的臭氧接觸反應池，其特征在于：所述第一導流墻（3）沿水流方向的橫截面是“┗”形的。
8.如權(quán)利要求1所述的臭氧接觸反應池，其特征在于：所述第一導流墻（3）沿水流方向的橫截面是“┻”形的。
9.如權(quán)利要求1所述的臭氧接觸反應池，其特征在于：每個第一導流墻（3）和與其相鄰的下游端第二導流墻（4）之間設置擋板（7）。
10.如權(quán)利要求1所述的臭氧接觸反應池，其特征在于：所述臭氧曝氣裝置（2）為曝氣頭。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于福建新大陸環(huán)保科技有限公司，未經(jīng)福建新大陸環(huán)保科技有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310081641.X/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
