[發(fā)明專利]陣列光學(xué)元件制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310081213.7
• 申請日: 2013-03-14
• 公開（公告）號: CN103116196A
• 公開（公告）日: 2013-05-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 沈偉;李遠(yuǎn)林
• 申請（專利權(quán)）人: 峻立科技股份有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G02B7/02
• 代理公司: 北京泰吉知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11355
• 代理人: 張雅軍

1.一種陣列光學(xué)元件制造方法，其特征在于：

該陣列光學(xué)元件制造方法，包含：

（A）以一個第一材料成形出一個遮光框，該第一材料為低透光或不透光材料，并具有一個熱變形溫度，該遮光框具有一個底壁、一個一體連接于該底壁并沿一光軸向延伸的周壁，及至少一個一體連接于該底壁與該周壁之間并沿該光軸向延伸的隔間壁，該底壁具有數(shù)個呈陣列排列的通孔，該周壁與該隔間壁配合界定出數(shù)個分別連通于所述通孔且互相隔離的光通道；

（B）將該遮光框置入一個成形模具的一個成形模穴內(nèi)；及

（C）將一個第二材料射入該成形模穴內(nèi)，成形出一個與該遮光框一體連接的透鏡單元，該第二材料為光學(xué)塑料，并具有一個小于該熱變形溫度的成形溫度，該透鏡單元具有一個結(jié)合于該底壁底側(cè)的基板，及數(shù)個分別一體連接于該基板頂側(cè)并沿該光軸向延伸的頂定位壁，該基板具有數(shù)個分別對應(yīng)于所述通孔的透鏡部，所述頂定位壁內(nèi)側(cè)結(jié)合于該遮光框的周壁外側(cè)，其中，該遮光框在該光軸向上不凸出于所述頂定位壁。

2.如權(quán)利要求1所述的陣列光學(xué)元件制造方法，其特征在于：在該步驟（A）中，該遮光框在該光軸向上具有一個第一高度，在該步驟（C）中，該透鏡單元的透鏡部分別具有一個光學(xué)有效徑，0.2≤該第一高度/該光學(xué)有效徑≤2.0。

3.如權(quán)利要求2所述的陣列光學(xué)元件制造方法，其特征在于：在該步驟（C）中，所述頂定位壁在該光軸向上分別具有一個大于該第一高度的第二高度，該第一高度、第二高度的差值≤50μm。

4.如權(quán)利要求1所述的陣列光學(xué)元件制造方法，其特征在于：在該步驟（C）中，該透鏡單元的頂定位壁分別具有一個相背于該遮光框的周壁的定位平面，該基板外周緣不超出所述頂定位壁的定位平面。

5.如權(quán)利要求4所述的陣列光學(xué)元件制造方法，其特征在于：在該步驟（C）中，該透鏡單元還具有數(shù)個分別一體連接于該基板底側(cè)并沿該光軸向延伸的底定位壁。

6.如權(quán)利要求1所述的陣列光學(xué)元件制造方法，其特征在于：在該步驟（A）中，該第一材料是選自于由金屬、熱塑性塑料、熱固性塑料及硅膠所組成的群體。

7.如權(quán)利要求1所述的陣列光學(xué)元件制造方法，其特征在于：在該步驟（A）中，該遮光框采用射出成形。

8.如權(quán)利要求1所述的陣列光學(xué)元件制造方法，其特征在于：在該步驟（A）中，該遮光框采用押出成形。

9.如權(quán)利要求1所述的陣列光學(xué)元件制造方法，其特征在于：在該步驟（C）中，一個由該透鏡單元與該遮光框一體連接而成的陣列光學(xué)元件的長度與寬度皆不超過3㎜，高度不超過2㎜。