[發明專利]含有讀/寫電壓產生器芯片的三維存儲器有效
| 申請號: | 201310079458.6 | 申請日: | 2013-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN103633048A | 公開(公告)日: | 2014-03-12 |
| 發明(設計)人: | 張國飆 | 申請(專利權)人: | 成都海存艾匹科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/488 | 分類號: | H01L23/488;H01L25/065;H01L25/16 |
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| 地址: | 610041 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含有 電壓 產生器 芯片 三維 存儲器 | ||
技術領域
本發明涉及集成電路存儲器領域,更確切地說,涉及三維存儲器(3D-M)。
背景技術
三維存儲器(3D-M)是一種單片(monolithic)半導體存儲器,它含有多個相互堆疊的存儲層。3D-M包括三維只讀存儲器(3D-ROM)和三維隨機讀取存儲器(3D-RAM)。3D-ROM可以進一步劃分為三維掩膜編程只讀存儲器(3D-MPROM)和三維電編程只讀存儲器(3D-EPROM)。基于其編程機制,3D-M可以含有memristor、resistive?random-access?memory(RRAM或ReRAM)、phase-change?memory(PCM)、programmable?metallization?memory(PMM)、或conductive-bridging?random-access?memory(CBRAM)。
美國專利5,835,396披露了一種3D-M,即3D-ROM。如圖1A所示,3D-M芯片20含有一襯底層0K及多個堆疊于襯底層0K上并相互堆疊的存儲層16A、16B。襯底層0K含有晶體管0t及其互連線0i。其中,晶體管0t形成在半導體襯底0中;互連線0i含有襯底金屬層0M1、0M2,它位于襯底0上方,但位于最低存儲層16A下方。存儲層(如16A)通過接觸通道孔(如1av)與襯底層0K耦合。
每個存儲層(如16A)含有多條頂地址線(如2a)、底地址線(如1a)和存儲元(如5aa)。存儲元可以采用二極管、晶體管或別的器件。在各種存儲元中,采用二極管的存儲元尤其重要:其面積最小,僅為4F2(F為最小特征尺寸)。二極管存儲元一般形成在頂地址線和底地址線的交叉點處,從而構成一交叉點(cross-point)陣列。這里,二極管泛指任何具有如下特征的二端器件:當其外加電壓的數值小于讀電壓或外加電壓的方向與讀電壓相反時,其電阻遠大于其在讀電壓下的電阻。二極管的例子包括半導體二極管(如p-i-n硅二極管等)和金屬氧化物二極管(如氧化鈦二極管、氧化鎳二極管等)等。
存儲層16A、16B構成至少一三維存儲陣列16,而襯底層0K則含有三維存儲陣列16的周邊電路。其中,一部分周邊電路位于三維存儲陣列下方,它們被稱為陣列下周邊電路;另一部分周邊電路位于三維存儲陣列外邊,它們被稱為陣列外周邊電路18。由于陣列外周邊電路18上方的空間17不含有存儲元,該空間實際上被浪費了。
美國專利7,388,476披露了一種集成3D-M芯片20,它能直接使用由主機提供的電源電壓23,并直接與主機交換地址/數據27。這里,主機是直接使用該芯片20的設備,主機使用的地址/數據27是邏輯地址/數據。
如圖1B所示,集成3D-M芯片20含有一3D-M核心區域22和一中間電路區域28。3D-M核心區域22含有多個三維存儲陣列(如22aa、22ay)及其解碼器(如24、24G)。這些解碼器24包括本地解碼器24和整體解碼器24G。其中,本地解碼器24對單個三維存儲陣列的地址/數據進行解碼,整體解碼器24G將整體地址/數據25解碼至單個三維存儲陣列中。注意到,3D-M核心區域22的地址/數據25是物理地址/數據。
中間電路區域28含有介于3D-M核心區域22和主機之間的中間電路。中間電路28為3D-M核心區域22與主機之間實現電壓、數據、地址轉換。例如,它將電源電壓23轉換成讀電壓VR或/和寫(編程)電壓VW,將邏輯地址/數據27與物理地址/數據25相互轉換。中間電路28含有讀/寫電壓產生器21和地址/數據轉換器29。其中,讀/寫電壓產生器21括帶隙基準電路(精確基準電壓源)21B、讀電壓產生器21R和電荷泵21W(參考美國專利6,486,728)。現有技術的集成3D-M芯片20在芯片內部實現電壓、數據、地址轉換。
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