[發明專利]圖像處理設備、圖像處理方法和放射線系統有效
| 申請號: | 201310078741.7 | 申請日: | 2013-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN103312996A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發明(設計)人: | 小林剛 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | H04N5/361 | 分類號: | H04N5/361;H04N5/232;H04N5/235;H04N5/32 |
| 代理公司: | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人: | 魏啟學 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 處理 設備 方法 放射線 系統 | ||
1.一種圖像處理設備,用于數字放射線攝像單元所獲得的放射線圖像,所述圖像處理設備包括:
獲得部件,用于獲得第一暗電流數據、放射線圖像和第二暗電流數據,其中,所述第一暗電流數據是在通過利用放射線照射所述數字放射線攝像單元來進行放射線攝像之前、不利用放射線照射所述數字放射線攝像單元的狀態下獲得的,所述放射線圖像是通過放射線攝像而獲得的,所述第二暗電流數據是在放射線攝像之后、不利用放射線照射所述數字放射線攝像單元的狀態下獲得的;
生成部件,用于生成校正數據,其中,在所述校正數據中,對所述第一暗電流數據和所述第二暗電流數據進行合成,從而與所述第一暗電流數據和所述第二暗電流數據中的一個的特定頻率成分相比,相對強調所述第一暗電流數據和所述第二暗電流數據中的另一個的相應頻率成分;以及
校正部件,用于基于所生成的校正數據來校正所述獲得部件所獲得的放射線圖像。
2.根據權利要求1所述的圖像處理設備,其中,所述生成部件基于所述第一暗電流數據和所述第二暗電流數據來生成所述校正數據,其中在所述校正數據中,與所述第二暗電流數據的第一頻率成分相比、相對強調所述第一暗電流數據的相應第一頻率成分,并且與所述第一暗電流數據的第二頻率成分相比、相對強調所述第二暗電流數據的相應第二頻率成分。
3.根據權利要求2所述的圖像處理設備,其中,所述生成部件從所述第一暗電流數據中提取所述第一頻率成分,從所述第二暗電流數據中提取所述第二頻率成分,并且通過對所提取的第一頻率成分和所提取的第二頻率成分進行合成來生成所述校正數據。
4.根據權利要求1所述的圖像處理設備,其中,所述特定頻率成分是高頻成分,以及
所述生成部件通過減少所述第一暗電流數據的低頻成分來生成校正數據。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的圖像處理設備,其中,所述生成部件基于針對各個相關頻帶所設置的加權系數來改變第一頻率成分相對于第二頻率成分的比率。
6.根據權利要求5所述的圖像處理設備,其中,還包括設置部件,所述設置部件用于基于所述獲得部件所獲得的放射線圖像來設置改變后的第一頻率成分相對于第二頻率成分的比率。
7.根據權利要求1~4中任一項所述的圖像處理設備,其中,所述生成部件通過對所述第一暗電流數據和所述第二暗電流數據中的至少一個,應用與所述第二暗電流數據相比、相對強調所述第一暗電流數據中的第一頻帶并且與所述第一暗電流數據相比、相對強調所述第二暗電流數據中的第二頻帶的圖像處理,來生成所述校正數據。
8.根據權利要求1所述的圖像處理設備,其中,所述生成部件生成第一校正數據和第二校正數據,在所述第一校正數據中,與所述第一暗電流數據相關聯地減小低頻帶側的頻率成分相對于高頻帶側的頻率成分的比率,以及在所述第二校正數據中,與所述第二暗電流數據相關聯地減小高頻帶側的頻率成分相對于低頻帶側的頻率成分的比率,以及
所述校正部件使用所述第一校正數據和所述第二校正數據校正所述獲得部件所獲得的放射線圖像。
9.根據權利要求1~4和8中任一項所述的圖像處理設備,其中,還包括處理部件,所述處理部件用于通過對在被攝體攝像前從放射線檢測器獲得的暗電流數據應用減少隨機噪聲的處理來獲得所述第一暗電流數據。
10.根據權利要求9所述的圖像處理設備,其中,所述處理部件通過對多個暗電流數據進行平均來獲得所述第一暗電流數據。
11.根據權利要求1~4和8中任一項所述的圖像處理設備,其中,所述獲得部件通過在與所述放射線圖像的攝像累積時間相等的累積時間期間、不利用放射線照射所述數字放射線攝像單元的狀態下執行攝像來獲得所述第二暗電流數據。
12.根據權利要求6所述的圖像處理設備,其中,所述設置部件設置所述比率以使得所述第二暗電流數據的第二頻率成分相對于所述第一暗電流數據的第二頻率成分的比率隨著被攝體亮度的增大而增大。
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