[發(fā)明專利]制作與雙重圖案化技術(shù)兼容的轉(zhuǎn)折布局繞線的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310078397.1
• 申請(qǐng)日: 2013-03-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103311102A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 袁磊;J·桂
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 格羅方德半導(dǎo)體公司
• 主分類號(hào): H01L21/033
• 分類號(hào): H01L21/033;G03F1/76
• 代理公司: 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽(yáng)

1.一種方法，包含下列步驟：

建立由包含一奇轉(zhuǎn)折特征的多個(gè)特征構(gòu)成的一整體目標(biāo)圖案，該奇轉(zhuǎn)折特征有連接第一及第二直線部分的一跨接區(qū)，該跨接區(qū)在平行于該第一及該第二直線部分中的一直線部分的長(zhǎng)軸的第一方向有第一尺寸，該第一尺寸大于該第一及該第二直線部分各自在橫交于該第一方向的第二方向的第二尺寸；

將該整體目標(biāo)圖案分解成第一子目標(biāo)圖案與第二子目標(biāo)圖案，其中，該第一子目標(biāo)圖案包含該第一及該第二直線部分中之一直線部分與該跨接區(qū)的第一部分以及該第二子目標(biāo)圖案包含該第一及該第二直線部分中的另一直線部分與該跨接區(qū)的第二部分；

產(chǎn)生對(duì)應(yīng)至該第一子目標(biāo)圖案的第一組掩膜數(shù)據(jù)；以及

產(chǎn)生對(duì)應(yīng)至該第二子目標(biāo)圖案的第二組掩膜數(shù)據(jù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括提供該第一及該第二組掩膜數(shù)據(jù)給一掩膜制造商。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，該奇轉(zhuǎn)折特征的跨越距離等于該整體目標(biāo)圖案的一間距大小。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，該跨接區(qū)的該第一部分的第一端與該第一子目標(biāo)圖案的所述特征中的最近者的一邊緣隔開(kāi)一段大于單一圖案化技術(shù)的最小解析能力的距離。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，該跨接區(qū)的該第二部分的第二端與該第二子目標(biāo)圖案的所述特征中的最近者的一邊緣隔開(kāi)一段大于單一圖案化技術(shù)的最小解析能力的距離。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括測(cè)定該第一尺寸在以下位置的數(shù)值：該第一子目標(biāo)圖案中的特征的最小間隔等于或大于單一圖案化技術(shù)的最小解析能力。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括測(cè)定該第一及該第二子圖案的所述轉(zhuǎn)折部分的重迭距離在以下位置的數(shù)值：該第一子目標(biāo)圖案中的特征的最小間隔等于或大于單一圖案化技術(shù)的最小解析能力。

8.一種方法，包含下列步驟：

建立由包含一奇轉(zhuǎn)折特征的多個(gè)特征構(gòu)成的一整體目標(biāo)圖案，該奇轉(zhuǎn)折特征有連接第一及第二直線部分的一跨接區(qū)，該跨接區(qū)在平行于該第一及該第二直線部分中的一直線部分的長(zhǎng)軸的第一方向有第一尺寸；

將該整體目標(biāo)圖案分解成第一子目標(biāo)圖案與第二子目標(biāo)圖案，其中，該第一子目標(biāo)圖案包含該第一及該第二直線部分中的一直線部分與該跨接區(qū)的第一部分以及該第二子目標(biāo)圖案包含該第一及該第二直線部分中的另一直線部分與該跨接區(qū)的第二部分；

測(cè)定該第一尺寸在以下位置的數(shù)值：該第一子目標(biāo)圖案中的特征的最小間隔等于或大于單一圖案化技術(shù)的最小解析能力；

產(chǎn)生對(duì)應(yīng)至該第一子目標(biāo)圖案的第一組掩膜數(shù)據(jù)；以及

產(chǎn)生對(duì)應(yīng)至該第二子目標(biāo)圖案的第二組掩膜數(shù)據(jù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，進(jìn)一步包括測(cè)定該第一及該第二子圖案的所述轉(zhuǎn)折部分的重迭距離在以下位置的數(shù)值：該第一子目標(biāo)圖案中的特征的最小間隔等于或大于單一圖案化技術(shù)的最小解析能力。

10.一種方法，包含下列步驟：

建立由包含一奇轉(zhuǎn)折特征的多個(gè)特征構(gòu)成的一整體目標(biāo)圖案，該奇轉(zhuǎn)折特征有連接第一及第二直線部分的一跨接區(qū)，該跨接區(qū)在平行于該第一及該第二直線部分中的一直線部分的長(zhǎng)軸的第一方向有第一尺寸；

將該整體目標(biāo)圖案分解成第一子目標(biāo)圖案與第二子目標(biāo)圖案，其中，該第一子目標(biāo)圖案包含該第一及該第二直線部分中的一直線部分與該跨接區(qū)的第一部分以及該第二子目標(biāo)圖案包含該第一及該第二直線部分中的另一直線部分與該跨接區(qū)的第二部分；

測(cè)定該第一及該第二子圖案的所述轉(zhuǎn)折部分的重迭距離在以下位置的數(shù)值：該第一子目標(biāo)圖案中的特征的最小間隔等于或大于單一圖案化技術(shù)的最小解析能力；

產(chǎn)生對(duì)應(yīng)至該第一子目標(biāo)圖案的第一組掩膜數(shù)據(jù)；以及

產(chǎn)生對(duì)應(yīng)至該第二子目標(biāo)圖案的第二組掩膜數(shù)據(jù)。