[發明專利]一種基于橢偏儀的納米材料熔點的測量方法無效
| 申請號: | 201310077694.4 | 申請日: | 2013-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN103175785A | 公開(公告)日: | 2013-06-26 |
| 發明(設計)人: | 張冬旭;鄭玉祥;陳良堯;吳康寧;張榮君;王松有;李晶;楊月梅 | 申請(專利權)人: | 復旦大學 |
| 主分類號: | G01N21/21 | 分類號: | G01N21/21 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陸飛;盛志范 |
| 地址: | 200433 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 橢偏儀 納米 材料 熔點 測量方法 | ||
1.一種基于橢偏儀的納米材料熔點的測量方法,其特征在于具體步驟為:
(1)首先,利用反射式橢偏儀測量不同溫度下納米材料的p光、s光的反射率的比值tanΨ和相位延遲Δ;
(2)然后通過測量得到橢偏參數Ψ、Δ,計算出材料的介電常數ε1、ε2以及折射率n、消光系數k;
(3)計算光學常數隨溫度的變化率;
(4)比較光學常數隨溫度的變化譜,以及變化率隨溫度的變化譜,通過觀察其突變來確定被測納米材料的熔點。
2.根據權利要求1所述的基于橢偏儀的納米材料熔點的測量方法,其特征在于步驟(2)中,對于體材料,各參數通過以下公式求得:
??????????????????????????????????????????????????(1)
???????????????????????(2)
??????????????????????????????????????(3)
??????????????????????????????????????(4)。
3.根據權利要求1所述的基于橢偏儀的納米材料熔點的測量方法,其特征在于步驟(3)中,計算光學常數隨溫度變化的變化率:dΨ/dT、dΔ/dT、dn/dT、dk/dT、dε1/dT和dε2/dT。
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