[發明專利]一種流體對沖擊式研磨分散元件

無效

• 申請號: 201310077167.3
• 申請日: 2013-03-12
• 公開（公告）號: CN103240154A
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發明（設計）人: 蘇有良;蘇衡
• 申請（專利權）人: 蘇有良
• 主分類號: B02C19/00
• 分類號: B02C19/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種新型研磨分散設備中的研磨分散元件。?

背景技術

研磨分散設備在諸多行業及領域中廣泛使用，如：涂料、粉體、食品、藥品、日用化工等。研磨分散設備基礎組成部件包括：驅動部分、傳動部分、研磨分散部分，研磨分散效率，與驅動傳動機械部件的效率、機械運行穩定性有關，但更主要的是與研磨分散部件的結構、性能密切相關。對研磨分散元件的研究一直是研磨分散設備廠商的重要課題，德國耐馳機械有限公司針對不同的研磨料及應用領域，開發出了多種類型的研磨分散元件，這些元件是該公司研磨分散機高效運行、制備出的產品質量穩定的重要原因。隨著我國經濟的發展，我國在研磨分散設備制造業取得了很大的發展，解決了諸多行業領域的生產問題，但如何更好地更有效地解決粉體研磨分散效率及制備產出的性能穩定是一個廣泛受關注的問題。這也對研磨分散機械提出了更高的要求。這一較高要求的能否實現關系到各個行業產品質量的提高及生產過程的節能減排。而這些問題的解決與研磨分散元件的設計、結構和性能密切相關。?

專利CN?2367428Y設計了一種新型濕法研磨分散機構，由分散軸、分散盤和較多的葉片組成。該設備利用具有傾角的葉片推動流體定向運動，并與分散盤相互作用達到分散的目的，該機構由多葉片與分散盤共同完成研磨分散任務，組件復雜、難以清洗，而且由于多葉片在長期高速運轉的分散軸驅動下容易引起生產安全問題。CN?202143846述及一種研磨機高效研磨分散盤。盤形體的盤面上設有數個漸起于該盤形體底平面的階形體，一種階形體與盤形體底平面夾角在5゜～45゜，此裝置盤形體上下兩個盤面上至少設有2個以上的階形體，階形體的脊交錯排列，且傾斜方向一致。該設備利用分散盤帶動研磨介質高速運動而產生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。該設備僅靠物料被盤面帶動旋轉拋射及與階形體碰撞形成拋射，達到研磨的目的。由于物料與盤面有效作用面積小，物料在液體中粒子間相互碰撞機率小，所以難以達到理想的分散研磨效果。?

針對以上技術問題，提出更合理利用能源、更安全有效的研磨分散元件是非常有必要的。?

發明內容

本發明的實施例提供一種新的流體對沖擊式研磨分散元件。該研磨分散元件利用了流體中的粒子在機械帶動的切線拋力作用下做正向或側向對撞能夠獲得高能量、且能夠提高動能利用率的原理，從而實現了高效研磨。同時，下分散盤旋轉后產生向上強大的負壓力，使底部流體向上運動，從而也解決了缸體底部易沉積固體形成死角的難題。?

為達到上述目的，本發明的實施例采用技術方案：一種流體對沖擊式研磨分散元件，包括上分散盤、下分散盤、分散桿。?

其中，所述的上分散盤、下分散盤均呈漏斗型；上分散盤、下分散盤的漏斗底部對接，上分散盤的漏斗底部與分散桿固定連接；上分散盤、下分散盤的軸線與分散桿的軸線重合；上分散盤、下分散盤的側壁開有通透缺口；通透缺口內側邊緣都有一個向內側方向伸展的耳型突起。?

進一步的，所述的分散桿為圓柱體，分散桿的半徑為0.3～1.0cm，優選為0.5cm；所述的上分散盤與下分散盤的形狀、大小均相同，且其漏斗口半徑為5～10cm，優選為7cm；所述的上分散盤的軸線與其側壁壁面的切面夾角為30°～85°，優選為60°。?

進一步的，所述的通透缺口的數目為2～5，優選為3，且沿側壁均勻分布，其形狀為長方形或正方形,其寬度為0.5～1.0cm，其長度為0.5～1.0cm，面積占側壁面積的0.5%～20%，優選為長方形,寬度為0.5cm，長度為1.0cm。?

進一步的，所述的耳型突起，其形狀、大小均與所述的通透缺口相同，且與漏斗型壁面的切面夾角為5°～80°，優選為75°。?

本發明的實施例提供的研磨分散元件，與現有技術相比，能夠使流體中的粒子在機械帶動的切線拋力作用下做正向或側向對撞，能夠獲得更高的能量、且進一步提高了動能利用率，能夠實現高效研磨。同時，下分散盤旋轉后產生向上強大的負壓力，能夠使底部流體向上運動，從而也解決了缸體底部易沉積固體形成死角的難題。?

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。?

圖1為實施例一的流體對沖擊式研磨分散元件的結構示意圖。?

具體實施方式