[發(fā)明專利]處理裝置和處理方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310070532.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-03-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103301992A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 藤田博;磯明典;添田勝之;西部幸伸;佐佐木真一 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社東芝;芝浦機(jī)械電子株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | B05C5/00 | 分類號(hào): | B05C5/00;B05C11/00;B05C11/10;C03C15/00;C03C17/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 楊謙;胡建新 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 方法 | ||
1.一種處理裝置,具備:
輸送部,輸送被處理物;
回收部,回收已供給到由所述輸送部輸送的所述被處理物的處理面上的第一處理液;
第一噴嘴,將由所述回收部回收的所述第一處理液向所述被處理物的處理面噴出;
第二噴嘴,設(shè)置在所述第一噴嘴的輸送方向的下游側(cè),向所述被處理物的處理面噴出第二處理液;以及
第三噴嘴,設(shè)置在所述第二噴嘴的輸送方向的下游側(cè),向所述被處理物的處理面噴出清洗液,
所述第二噴嘴朝著與相對(duì)所述輸送方向垂直的方向相比向所述輸送方向的下游側(cè)噴出所述第二處理液,
所述第三噴嘴朝著與相對(duì)所述輸送方向垂直的方向相比向所述輸送方向的上游側(cè)噴出所述清洗液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置,所述第一處理液中含有的對(duì)處理有效的成分和所述第二處理液中含有的對(duì)處理有效的成分相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理裝置,所述處理面上的第二處理液的供給位置與所述處理面上的所述清洗液的供給位置之間的距離大于等于160mm且小于等于240mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理裝置,所述被處理物的輸送速度小于等于50mm/s,所述第二處理液和所述清洗液的供給量大于等于16升/min且小于等于32升/min。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的處理裝置,所述被處理物的輸送速度小于等于50mm/s,所述第二處理液和所述清洗液的供給量大于等于16升/min且小于等于32升/min。
6.一種處理方法,從噴嘴向所輸送的被處理物的處理面噴出處理液來(lái)處理所述被處理物,包括:
回收已供給到所輸送的所述被處理物的處理面上的第一處理液的工序;
將回收的所述第一處理液從第一噴嘴向所述被處理物的處理面噴出的工序;
在所述第一噴嘴的輸送方向的下游側(cè),從第二噴嘴向所述被處理物的處理面噴出第二處理液的工序;以及
在所述第二噴嘴的輸送方向的下游側(cè),從第三噴嘴向所述被處理物的處理面噴出清洗液的工序,
在所述第一噴嘴的輸送方向的下游側(cè),從第二噴嘴向所述被處理物的處理面噴出第二處理液的工序中,從所述第二噴嘴朝著與相對(duì)輸送方向垂直的方向相比向所述輸送方向的下游側(cè)噴出所述第二處理液,
在所述第二噴嘴的輸送方向的下游側(cè),從第三噴嘴向所述被處理物的處理面噴出清洗液的工序中,從所述第三噴嘴朝著與相對(duì)輸送方向垂直的方向相比向所述輸送方向的上游側(cè)噴出所述清洗液。
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