[發(fā)明專利]使用電磁流量計(jì)的清洗品質(zhì)管理裝置及清洗品質(zhì)管理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310069296.8
• 申請(qǐng)日: 2013-01-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103900647B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 飯島拓也
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社東芝
• 主分類號(hào): G01F1/58
• 分類號(hào): G01F1/58;G01R27/22
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司72002
• 代理人: 徐冰冰,黃劍鋒

本申請(qǐng)以日本專利申請(qǐng)2012-281714(申請(qǐng)日為2012年12月25日)為基礎(chǔ)，要求享受該申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)。本申請(qǐng)參照該申請(qǐng)，包括該申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明的實(shí)施方式涉及使用電磁流量計(jì)的清洗品質(zhì)管理裝置與清洗品質(zhì)管理方法。

背景技術(shù)

電磁流量計(jì)為測(cè)量具有導(dǎo)電性的流體的流量的裝置。電磁流量計(jì)包括普通型和稱為電容式的類型，在普通型中，檢測(cè)流速的電極設(shè)置于使流體流過(guò)的測(cè)量管的內(nèi)壁部，用于在接觸流體的狀態(tài)，電導(dǎo)率大于等于3μS/cm的流體的測(cè)量，在該電容式的類型中，電極設(shè)置于測(cè)量管間壁外部上，在不接觸流體的狀態(tài)，即使在為電導(dǎo)率大于等于0.01μS/cm的純水的電導(dǎo)率的情況下，仍可測(cè)量，具有高輸入阻抗。

在這樣的電磁流量計(jì)中，由于在使流體流過(guò)的測(cè)量管的內(nèi)壁上沒(méi)有操縱部，故使電導(dǎo)率上升(雜質(zhì)含量增加)的原因少，另外，由于沒(méi)有操縱部件，故用于半導(dǎo)體制造步驟的各處理步驟中的清洗裝、藥品濃度調(diào)整裝置等各種清洗時(shí)的流量測(cè)量。

比如，在半導(dǎo)體晶片的制造步驟中，使用溢流方式的純水供給裝置，使用多個(gè)清洗槽，通過(guò)純水而對(duì)晶片進(jìn)行清洗。為了控制對(duì)該清洗槽的純水供給量，使用流量計(jì)(比如，參照專利文獻(xiàn)1)。

另外，在測(cè)量殘留氯、其它藥品的殘留濃度的殘留氯測(cè)量裝置中，進(jìn)行純水的濃度調(diào)和，該純水的流量控制使用流量計(jì)(比如，參照專利文獻(xiàn)2)。

另外，同樣在半導(dǎo)體晶片表面的拋光裝置中，研磨劑的供給、供給清洗的純水的控制使用流量計(jì)(比如，參照專利文獻(xiàn)3)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：JP公開(kāi)平5-144787號(hào)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)2：JP公開(kāi)平6-194337號(hào)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)3：JP公開(kāi)平2000-202765號(hào)文獻(xiàn)

發(fā)明的概述

發(fā)明要解決的課題

在半導(dǎo)體晶片制造步驟的清洗中，管理半導(dǎo)體的清洗品質(zhì)，并且按照使化學(xué)品最小的方式削減清洗所使用的純水的量這一點(diǎn)對(duì)于純水制造成本和縮短半導(dǎo)體制造的時(shí)間來(lái)說(shuō)，是重要的。

但是，在使用專利文獻(xiàn)1所示的那樣的溢流方式的多個(gè)清洗槽，通過(guò)純水而對(duì)晶片進(jìn)行清洗的方法中，由于晶片處理個(gè)數(shù)及所處理的清洗品質(zhì)的程度在各處理步驟中條件不同，故難以自動(dòng)地判斷清洗品質(zhì)是否良好。

由此，清洗步驟中的品質(zhì)采用了使用一定量以上的大量的純水的方法，或每次測(cè)量清洗后的排水的電導(dǎo)率，在排水為純水之前，繼續(xù)清洗的管理方法，但是，具有耗費(fèi)大量的純水的問(wèn)題，清洗品質(zhì)是否良好的判斷花費(fèi)時(shí)間的問(wèn)題。

另外，在專利文獻(xiàn)2所示的那樣的殘留濃度控制的情況下，由于在混合品、清洗后的排水的藥品濃度在一定程度以下之前，供給純水，繼續(xù)進(jìn)行稀釋處理，故仍具有以良好的精度，自動(dòng)地判斷混合液、清洗排水的品質(zhì)的課題。

此外，在專利文獻(xiàn)3中公開(kāi)的晶片的拋光步驟的清洗中，由于每次測(cè)量清洗后的排水的電導(dǎo)率，連續(xù)清洗，直至達(dá)到管理基準(zhǔn)以下的值的電導(dǎo)率，故具有花費(fèi)時(shí)間的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是為了解決上述課題而提出的，本發(fā)明的目的在于提供使用了電磁流量計(jì)的清洗品質(zhì)管理裝置和清洗品質(zhì)的管理方法，其中，利用即使為低電導(dǎo)率的流體，仍可測(cè)量的電磁流量計(jì)的特性，不每次測(cè)量各種清洗步驟中的清洗排水的電導(dǎo)率，而可將電磁流量計(jì)的檢測(cè)信號(hào)與清洗排水的電導(dǎo)率預(yù)先建立對(duì)應(yīng)，連續(xù)地測(cè)量清洗排水的電導(dǎo)率，自動(dòng)地判斷清洗是否完成的清洗品質(zhì)是否良好。

用于解決課題的技術(shù)方案

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的使用了電磁流量計(jì)的清洗品質(zhì)管理裝置，其特征在于，包括：電磁流量計(jì)，使可進(jìn)行流量測(cè)量的一定量以上的清洗排水流過(guò)，測(cè)量清洗排水的流量；以及清洗品質(zhì)管理裝置，根據(jù)上述電磁流量計(jì)的檢測(cè)信號(hào)，自動(dòng)地判斷清洗是否已完成的清洗品質(zhì)；上述清洗品質(zhì)管理裝置包括：S/N測(cè)量部，測(cè)量上述電磁流量計(jì)的檢測(cè)信號(hào)的S/N比；以及清洗完成判斷部，具有S/N比·電導(dǎo)率判斷表格，在成為預(yù)先確定的電導(dǎo)率以下的情況下，輸出清洗完成，在該S/N比·電導(dǎo)率判斷表格中，使用預(yù)先設(shè)定的電導(dǎo)率的清洗排水，預(yù)先將上述S/N比測(cè)量部的輸出和上述清洗排水的電導(dǎo)率建立對(duì)應(yīng)；根據(jù)上述電磁流量計(jì)的檢測(cè)信號(hào)的S/N比的值，依據(jù)上述清洗排水的清洗品質(zhì)是否良好，自動(dòng)地判斷清洗完成是否已完成。