[發明專利]微衍射

有效

• 申請號: 201310069293.4
• 申請日: 2013-02-28
• 公開（公告）號: CN103383363B
• 公開（公告）日: 2017-05-03
• 發明（設計）人: D·貝克爾斯;M·歌特斯凱
• 申請（專利權）人: 帕納科有限公司
• 主分類號: G01N23/20
• 分類號: G01N23/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 陳芳

1.一種用于測量具有樣品表面的樣品的X射線衍射方法，所述方法包括：

沿著照射帶(16)照射X射線束(4)，所述照射帶在y方向上沿著所述樣品(10)的表面(14)延伸；

使被所述樣品沿著所述照射帶衍射的X射線通過所述樣品(10)和二維X射線檢測器(22)之間的掩模(20)，所述掩模(20)具有基本上垂直于所述y方向延伸的狹縫(24)，使得從沿著所述照射帶(16)的不同位置衍射的X射線在二維X射線檢測器(22)上沿著所述y方向的不同位置處被接收，其中所述掩模(20)被設置在與所述照射帶(16)相距所述照射帶(16)和所述二維X射線檢測器(22)之間的距離的20％和80％之間的距離的位置處；

在所述二維X射線檢測器上檢測被所述樣品(10)衍射的X射線，從而在所述二維X射線檢測器上沿著所述y方向的不同位置對應于沿著所述照射帶(16)的不同位置，在所述二維X射線檢測器上垂直于線方向的方向z’上的不同位置對應于不同的衍射角2θ。

2.根據權利要求1所述的方法，其中照射X射線束的步驟包括利用X射線源產生X射線并使產生的X射線通過源狹縫(6)來照射所述樣品(10)。

3.根據權利要求2所述的方法，進一步包括移動所述源狹縫(6)從而移動所述樣品的表面(14)上的所述照射帶(16)的位置。

4.根據權利要求2或3所述的方法，進一步包括使X射線束(4)通過另外的調節的光學器件。

5.根據權利要求1所述的方法，其中所述樣品是具有不均勻表面的樣品。

6.根據權利要求1所述的方法，進一步包括調節所述掩模(20)的位置來改變由所述二維X射線檢測器成像的照射帶(16)的長度。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述照射帶(16)的寬度是0.05mm至2mm。

8.一種用于測量具有樣品表面的樣品的X射線衍射裝置，該裝置包括：

用于產生X射線束(4)的X射線源(2)；

用于支撐所述樣品(10)的樣品臺(12)；

在所述X射線源(2)和所述樣品臺(12)之間的X射線光學器件，被設置用來限制X射線束，從而照射在y方向上沿著所述樣品(10)的表面(14)延伸的照射帶(16)；

用于檢測被所述樣品衍射的X射線的二維X射線檢測器(22)；和

在所述樣品(10)和二維X射線檢測器(22)之間的掩模(20)，所述掩模(20)具有基本上垂直于所述y方向延伸的狹縫(24)，使得從沿著所述照射帶(16)的不同位置衍射的X射線在所述二維X射線檢測器(22)上沿著所述y方向的不同位置處被接收；

其中所述掩模(20)被設置在與所述照射帶(16)相距所述照射帶(16)和所述二維X射線檢測器(22)之間的距離的20％和80％之間的距離的位置處。

9.根據權利要求8所述的X射線衍射裝置，其中所述X射線光學器件包括源狹縫(6)。

10.一種操作X射線衍射裝置的方法：

沿著照射帶從X射線源照射X射線束通過X射線光學器件，所述照射帶在y方向上沿著樣品的表面延伸；

使被所述樣品沿著所述照射帶衍射的X射線通過掩模中的狹縫，使得從沿著所述照射帶的不同位置衍射的X射線在二維X射線檢測器上沿著y方向的不同位置處被接收，其中所述掩模被設置在與所述照射帶相距所述照射帶和所述二維X射線檢測器之間的距離的20％和80％之間的距離的位置處；

在所述二維X射線檢測器上檢測被所述樣品衍射的X射線，從而在所述二維X射線檢測器上沿著y方向的不同位置對應于沿著所述照射帶的不同位置，并且在所述二維X射線檢測器上垂直于線方向的方向z’上的不同位置對應于不同的衍射角2θ。