[發(fā)明專利]光學(xué)眼壓測量裝置及其運作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310068713.7 | 申請日： | 2013-03-05 |
| 公開（公告）號： | CN103381090A | 公開（公告）日： | 2013-11-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王威;莊仲平;顏孟新;周忠誠;黃文煒;林俊男 | 申請（專利權(quán)）人： | 明達(dá)醫(yī)學(xué)科技股份有限公司 |
| 主分類號： | A61B3/16 | 分類號： | A61B3/16 |
| 代理公司： | 中國商標(biāo)專利事務(wù)所有限公司 11234 | 代理人： | 宋義興;周偉明 |
| 地址： | 中國臺灣桃園*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 眼壓 測量 裝置 及其 運作 方法 | ||
1.一種光學(xué)眼壓測量裝置，其特征在于，包含有：
一光源，用以提供一入射光；
一光學(xué)模塊，用以將該入射光分光為一第一入射光及一第二入射光后，該第一入射光及該第二入射光分別通過一第一光路及一第二光路射向一參考物及一待測物，并分別接收來自該參考物的一第一反射光信號以及來自該待測物的一第二反射光信號；
一加壓模塊，用以與該第二光路形成耦合，并提供一壓力致使該待測物產(chǎn)生變形；
一變形測量模塊，用以測量該待測物產(chǎn)生變形時的一變形量；以及
一處理模塊，耦接該光學(xué)模塊，用以對該第一反射光信號及該第二反射光信號進(jìn)行分析處理。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)眼壓測量裝置，其特征在于，該光學(xué)模塊包含有：
一分光/耦合單元，用以將來自該光源的該入射光分光為該第一入射光及該第二入射光后，該第一入射光及該第二入射光分別通過該第一光路及該第二光路射向該參考物及該待測物，并分別接收來自該參考物的該第一反射光信號以及來自該待測物的該第二反射光信號；
一光路單元，包含有由單個或復(fù)數(shù)個透鏡元件組成的透鏡組，用以將該第二反射光信號放大；以及
一影像感測單元，用以感測經(jīng)該光路單元放大后的該第二反射光信號以產(chǎn)生該待測物的一光學(xué)影像。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)眼壓測量裝置，其特征在于，該影像感測單元包含有一維或二維的一光學(xué)影像感測器，該光學(xué)影像感測器是屬于電荷耦合元件型式或互補式金氧半導(dǎo)體型式。
4.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)眼壓測量裝置，其特征在于，該光學(xué)模塊是通過該光路單元及該影像感測單元的匹配對該待測物提供一次性大范圍測量，并于大范圍測量過程中，通過對比該待測物的該光學(xué)影像判斷該待測物上的標(biāo)記所產(chǎn)生的偏移量，以及同步擷取該待測物于縱深方向上的該光學(xué)影像，以進(jìn)行動態(tài)測量補償修正。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)眼壓測量裝置，其特征在于，該加壓模塊包含有一氣動元件，用以產(chǎn)生一加壓氣流以提供該壓力致使該待測物產(chǎn)生變形，該加壓氣流是與該第二入射光以及該第二反射光信號部分或全部地共用該第二光路。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)眼壓測量裝置，其特征在于，該變形測量模塊包含有：
至少一光學(xué)發(fā)射單元，用以在該待測物產(chǎn)生變形前后分別發(fā)射一測量光至該待測物；以及
至少一光學(xué)接收單元，用以在該待測物產(chǎn)生變形前后分別接收該待測物反射該測量光所產(chǎn)生的一反射測量光，并據(jù)以求出該待測物的該變形量。
7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)眼壓測量裝置，其特征在于，該參考物選用具有不同曲率或不同材質(zhì)的反射鏡面來調(diào)整該參考物所反射的該第一反射光信號，以提供較佳的信號-噪音比。
8.一種運作一光學(xué)眼壓測量裝置的方法，其特征在于，該光學(xué)眼壓測量裝置包含一光源、一光學(xué)模塊、一加壓模塊、一變形測量模塊及一處理模塊，該方法包含下列步驟：
(a)?該光源提供一入射光；
(b)?該光學(xué)模塊將該入射光分光為一第一入射光及一第二入射光后，該第一入射光及該第二入射光分別通過一第一光路及一第二光路射向一參考物及一待測物；
(c)?該光學(xué)模塊分別接收來自該參考物的一第一反射光信號以及來自該待測物的一第二反射光信號；
(d)?該加壓模塊與該第二光路形成耦合，并提供一壓力致使該待測物產(chǎn)生變形；
(e)?該變形測量模塊測量該待測物產(chǎn)生變形時的一變形量；以及
(f)?該處理模塊對該第一反射光信號及該第二反射光信號進(jìn)行分析處理。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，該光學(xué)模塊還根據(jù)放大后的該第二反射光信號產(chǎn)生該待測物的一光學(xué)影像，該光學(xué)模塊還對該待測物提供一次性大范圍測量，并在大范圍測量過程中，通過對比該待測物的該光學(xué)影像判斷該待測物上的標(biāo)記所產(chǎn)生的偏移量，以及同步擷取該待測物在縱深方向上的該光學(xué)影像，以進(jìn)行動態(tài)測量補償修正。
10.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，該加壓模塊產(chǎn)生一加壓氣流以提供該壓力致使該待測物產(chǎn)生變形，該加壓氣流是與該第二入射光以及該第二反射光信號部分或全部地共用該第二光路。
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