[發(fā)明專利]基于光譜成像技術(shù)的國畫真?zhèn)舞b別方法與裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310068628.0 | 申請日: | 2013-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN103149164A | 公開(公告)日: | 2013-06-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉偉平;何嘉熾;邵琢瑕;陳舜兒 | 申請(專利權(quán))人: | 暨南大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/27 | 分類號: | G01N21/27 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102 | 代理人: | 江裕強(qiáng) |
| 地址: | 510632 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 光譜 成像 技術(shù) 國畫 真?zhèn)?/a> 鑒別方法 裝置 | ||
1.基于光譜成像技術(shù)的國畫真?zhèn)舞b別裝置,其特征在于包括圖像采集模塊和圖像分析與鑒別模塊,所述圖像分析與鑒別模塊包括計(jì)算機(jī)、數(shù)據(jù)庫和顯示器;所述圖像采集模塊包括能屏蔽外界未知光源且具有均勻漫反射特性的密閉裝置、寬帶可控的穩(wěn)定光源、由CCD、鏡頭及光濾波器組成的圖像獲取系統(tǒng)和與CCD相連的圖像采集卡;所述寬帶可控的穩(wěn)定光源位于所述密閉裝置中,用于產(chǎn)生不同波段的光并照射待鑒別國畫;所述圖像獲取系統(tǒng)用于接收經(jīng)待鑒別國畫反射的光線或透射過待鑒別國畫的光線并進(jìn)行成像,所述圖像采集卡用于采集經(jīng)圖像獲取系統(tǒng)成像后的不同波段的光譜圖像并轉(zhuǎn)存到所述計(jì)算機(jī)中的,所述計(jì)算機(jī)與數(shù)據(jù)庫及顯示器相連,計(jì)算機(jī)調(diào)用數(shù)據(jù)庫進(jìn)行分析比較并將鑒別結(jié)果輸出至顯示器,所述數(shù)據(jù)庫用于存儲已知國畫真跡與待鑒別國畫的光譜特征與圖像特征;所述計(jì)算機(jī)還與圖像獲取系統(tǒng)相接,通過控制圖像獲取系中的光濾波器而獲得單色光在CCD中成像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于光譜成像技術(shù)的國畫真?zhèn)舞b別裝置,其特征在于所述寬帶可控的穩(wěn)定光源和圖像獲取系統(tǒng)位于待鑒別國畫的同一側(cè)且均朝向待鑒別國畫的正面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于光譜成像技術(shù)的國畫真?zhèn)舞b別裝置,其特征在于所述寬帶可控的穩(wěn)定光源和圖像獲取系統(tǒng)分別位于待鑒別國畫的兩側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于光譜成像技術(shù)的國畫真?zhèn)舞b別裝置,其特征在于所述照相系中的光濾波器、CCD、鏡頭順次排列。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于光譜成像技術(shù)的國畫真?zhèn)舞b別裝置,其特征在于具有兩個所述圖像獲取系統(tǒng)和兩個圖像采集卡,且兩個圖像獲取系統(tǒng)分別位于待鑒別國畫的兩側(cè),每個圖像獲取系統(tǒng)均通過一個圖像采集卡與所述計(jì)算機(jī)連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于光譜成像技術(shù)的國畫真?zhèn)舞b別裝置,其特征在于所述寬帶可控的穩(wěn)定光源在可見光到近紅外范圍內(nèi)都有較為均勻的光譜功率分布,且光源發(fā)出的光在密閉裝置內(nèi)壁均勻的漫反射作用下,使待鑒別國畫上每一點(diǎn)的光照強(qiáng)度大小均勻。
7.基于光譜成像技術(shù)的國畫真?zhèn)舞b別方法,其特征在于包括:將待鑒別的國畫置于能屏蔽外界未知光源且具有均勻漫反射特性的密閉裝置內(nèi),并同時在該密閉裝置內(nèi)部使用寬帶可控的穩(wěn)定光源照射待鑒別國畫,使待鑒別國畫每一點(diǎn)上的光照強(qiáng)度大小均勻,且在整個測量光譜范圍內(nèi)都有比較均勻的光譜功率分布;通過計(jì)算機(jī)控制光濾波器,讓不同光譜范圍的反射光進(jìn)入圖像獲取系統(tǒng)的CCD中形成不同波段的光譜圖像,并通過圖像采集卡轉(zhuǎn)存到計(jì)算機(jī)中;再由計(jì)算機(jī)從采集到的光譜圖像中提取墨、顏料及印泥滲透于宣紙中的光譜特征與圖像特征,并與數(shù)據(jù)庫中事先獲取的已存真跡的光譜特征和圖像特征相比較,最后將待鑒國畫與真跡中墨、顏料、印鑒及宣紙的差異進(jìn)行綜合,把差異小于預(yù)設(shè)值的作品判定為真,把差異大于預(yù)設(shè)值的作品判定為假。
8.基于光譜成像技術(shù)的國畫真?zhèn)舞b別方法,其特征在于包括:將待鑒別的國畫置于能屏蔽外界未知光源且具有均勻漫反射特性的密閉裝置內(nèi),且待鑒別的國畫位于寬帶可控的穩(wěn)定光源與圖像獲取系統(tǒng)的CCD之間,待鑒別的國畫由透明載體支撐,并同時在該密閉裝置內(nèi)部使用寬帶可控的穩(wěn)定光源照射待鑒別國畫,使待鑒別國畫每一點(diǎn)上的光照強(qiáng)度大小均勻,且在整個測量光譜范圍內(nèi)都有比較均勻的光譜功率分布;光源發(fā)出的光經(jīng)均勻擴(kuò)散后照射于待鑒國畫上,并在光濾波器的選擇作用下使不同光譜范圍內(nèi)的透射光進(jìn)入CCD中,形成不同波段的光譜圖像,通過分析比較待鑒國畫與數(shù)據(jù)庫中已存真跡的墨、顏料及印泥滲透于宣紙中的光譜特征與圖像特征,將綜合差異小于預(yù)設(shè)值的待鑒國畫認(rèn)定為真品,而將綜合差異大于預(yù)設(shè)值的作品認(rèn)定為偽造品。
9.基于光譜成像技術(shù)的國畫真?zhèn)舞b別方法,其特征在于包括:將待鑒別的國畫置于能屏蔽外界未知光源且具有均勻漫反射特性的密閉裝置內(nèi),且待鑒別的國畫位于兩個圖像獲取系統(tǒng)之間,待鑒別的國畫由透明載體支撐,并同時在該密閉裝置內(nèi)部使用寬帶可控的穩(wěn)定光源照射待鑒別國畫,使待鑒別國畫每一點(diǎn)上的光照強(qiáng)度大小均勻,且在整個測量光譜范圍內(nèi)都有比較均勻的光譜功率分布;光源發(fā)出的光經(jīng)均勻擴(kuò)散后照射于待鑒國畫上,一部分作為反射光反射進(jìn)入密閉裝置上方圖像獲取系統(tǒng)的CCD中,而另一部分則穿過待鑒國畫成為透射光進(jìn)入下方圖像獲取系統(tǒng)的CCD中,實(shí)現(xiàn)反射特性與透射特性的同時測量;將反射與透射兩種情況下測得的墨、顏料及印泥滲透于宣紙中的光譜特征與圖像特征分別與數(shù)據(jù)庫中對應(yīng)的光譜特征與圖像特征進(jìn)行比較,并將該兩種情況中差異較大的差值與預(yù)設(shè)值相比,若差值大于預(yù)設(shè)值則判定為假,若小于則判定為真。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 防止技術(shù)開啟的鎖具新技術(shù)
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