[發明專利]彩膜基板及其制作方法、液晶顯示屏無效
| 申請號: | 201310067931.9 | 申請日: | 2013-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN103149730A | 公開(公告)日: | 2013-06-12 |
| 發明(設計)人: | 姜晶晶;黎敏;李圭鉉;吳洪江 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 韓國勝 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 彩膜基板 及其 制作方法 液晶顯示屏 | ||
技術領域
本發明涉及液晶顯示技術領域,特別是涉及一種彩膜基板及其制作方法、以及液晶顯示屏。
背景技術
隨著顯示技術的發展,繼高清之后,3D成為了顯示領域的下一個重心。裸眼式3D技術由于能夠擺脫眼鏡的束縛,一直是客戶的追求并越來越受到青睞。彩膜基板作為TFT-LCD液晶顯示器件的主要組成部分。
圖1為現有技術中彩膜基板的結構示意圖,其結構主要包括襯底基板11、黑矩陣12、彩色濾光單元13和保護層14(或稱平坦層),彩膜基板上還可以設置柱狀隔墊物15,及其它膜層(圖中未示出),柱狀隔墊物15所在一側為靠近液晶層一側。其中,彩色濾光單元12通常為紅色濾光單元、綠色濾光單元或藍色濾光單元。
圖2為現有技術中裸眼3D液晶顯示裝置的結構示意圖,其中,主要包括彩膜基板10、陣列基板20(陣列基板的具體結構圖中未示出)、液晶層30和光學器件40,其利用光學器件40達到從不同的角度觀看到顯示屏內不同像素的目的,實現裸眼3D顯示。
現有技術的不足主要體現在:1、工藝過程繁瑣,生產周期較長;2、引入一系列光學器件,生產成本增加。
發明內容
(一)要解決的技術問題
本發明要解決的技術問題是如何簡化3D顯示器件制作工藝和減少生產周期,及降低其生產成本的問題。
(二)技術方案
為了解決上述技術問題,本發明提供一種彩膜基板,其包括襯底基板、多個彩色濾光單元,以及微透鏡結構,所述彩色濾光單元設置于所述襯底基板和所述微透鏡結構之間。
進一步地,所述微透鏡結構為柱狀透鏡陣列。
進一步地,所述柱狀透鏡陣列中每個柱狀透鏡覆蓋所述彩膜基板的兩列像素單元,每列所述像素單元包括多個彩色濾光單元。
進一步地,所述微透鏡結構的微透鏡材料為透明光刻膠材料。
進一步地,所述透明光刻膠材料通過構圖工藝形成微透鏡結構。
進一步地,所述彩膜基板還包括黑矩陣,所述黑矩陣設置于所述彩色濾光單元之間。
本發明還提供一種彩膜基板的制備方法,其包括以下步驟:
S1、在襯底基板形成多個彩色濾光單元;
S2、在完成上述步驟的襯底基板上涂覆透明光刻膠,通過掩膜板對涂覆有光刻膠的襯底基板進行曝光、顯影,在襯底基板上形成圖案化的透明層;
S3、對完成上述步驟的襯底基板進行高溫處理,使透明層達到熔融態,在表面張力作用下而形成光滑弧面結構,冷卻后在襯底基板上形成微透鏡結構。
本發明還提供一種彩膜基板的制備方法,其包括以下步驟:
S1、在襯底基板形成多個彩色濾光單元;
S2、在完成上述步驟的襯底基板上涂覆透明光刻膠,通過灰色調掩膜板或半色調掩膜板對涂覆有光刻膠的襯底基板進行曝光、顯影,在襯底基板上形成微透鏡結構。
本發明還提供一種液晶顯示屏,包括陣列基板和液晶層,所述液晶顯示屏還包括上述的彩膜基板。
進一步地,所述彩膜基板的所述彩色濾光單元和所述微透鏡結構設于所述液晶顯示屏的遠離液晶層的一側。
(三)有益效果
上述技術方案所提供的一種彩膜基板及其制作方法、以及液晶顯示屏,彩膜基板包括襯底基板、多個彩色濾光單元,以及微透鏡結構,所述彩色濾光單元設于所述襯底基板和所述微透鏡結構之間,微透鏡起到三維顯示效果的同時,可省去傳統彩膜基板制作過程中的保護層,達到簡化工藝流程、減少生產周期和降低生產成本的目的,該方法所制得的彩膜基板適用于所有類型的液晶顯示器;通過構圖工藝直接將微透鏡制作在玻璃基板上,提高了透鏡的對位精度。
附圖說明
圖1是現有中彩膜基板的結構示意圖;
圖2是現有中裸眼3D液晶顯示裝置的結構示意圖;
圖3是本發明彩膜基板的結構示意圖;
圖4是本發明液晶顯示屏的工作原理圖;
圖5是本發明實施例三中微透鏡的制作流程圖;
圖6是本發明實施例四中微透鏡的制作流程圖;
圖7是本發明實施例四中半色調掩膜板的局部結構示意圖。
其中,11、襯底基板;12、黑矩陣;13、彩色濾光單元;14、保護層;15、柱狀隔墊物;10、彩膜基板;20、陣列基板;30、液晶層;40、光學器件;51、襯底基板;52、彩色濾光單元;53、微透鏡結構;54、黑矩陣;55、保護層;56、柱狀隔墊物;50、彩膜基板;60、掩模板;70、曝光光線;61、半色調掩膜板;61-1、透光區域。
具體實施方式
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