[發明專利]半導體集成裝置有效
| 申請號: | 201310067617.0 | 申請日: | 2013-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN103311238B | 公開(公告)日: | 2017-08-08 |
| 發明(設計)人: | 渕上千加志 | 申請(專利權)人: | 拉碧斯半導體株式會社 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 何欣亭,李浩 |
| 地址: | 日本神奈*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 集成 裝置 | ||
1.一種半導體集成裝置,包含主面形成靜電保護電路的半導體襯底、對于所述主面而言下表面相對的金屬焊盤、和在所述金屬焊盤的上表面相對地形成的導電性凸臺,其特征在于:
所述靜電保護電路包含互相鄰接的第1擴散區域及第2擴散區域,
所述第1擴散區域被所述第2擴散區域包圍,所述導電性凸臺是具有與所述第1擴散區域及所述第2擴散區域相對的相對面的板狀電極,并且在所述導電性凸臺與所述金屬焊盤的相對面中,在與所述第1擴散區域相對的范圍內,具有與所述金屬焊盤接觸的突起部。
2.如權利要求1所述的半導體集成裝置,其特征在于:在所述相對面中,在除了所述突起部以外的區域和所述金屬焊盤之間,形成有絕緣膜。
3.如權利要求1所述的半導體集成裝置,其特征在于:所述第2擴散區域與電源線或接地線連接。
4.如權利要求1所述的半導體集成裝置,其特征在于:
在所述金屬焊盤和所述半導體襯底的主面之間,形成有絕緣層;
設置貫通所述絕緣層而將所述金屬焊盤和所述第1擴散區域電連接的導電部件。
5.如權利要求1所述的半導體集成裝置,其特征在于:所述靜電保護電路,是將所述第1擴散區域作為漏極區域、將所述第2擴散區域作為源極區域的晶體管。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





