[發明專利]一種高深寬比微柱陣列的電場誘導壓印方法

有效

• 申請號: 201310066561.7
• 申請日: 2013-03-01
• 公開（公告）號: CN103159164A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 丁玉成;邵金友;胡鴻;田洪淼;李祥明;姜承寶
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: B81C1/00
• 分類號: B81C1/00;G03F7/00
• 代理公司: 西安智大知識產權代理事務所 61215
• 代理人: 賀建斌

1.一種高深寬比微柱陣列的電場誘導壓印方法，其特征在于，包括以下步驟：

1）壓印模具的制備及處理：在晶圓表面利用光刻和刻蝕工藝加工出所需的圓孔陣列圖形結構，并對其進行低表面能處理，即在壓印模具正面制作一層厚度為20-100nm的抗粘層C₄F₈；

2）基材、電極和聚合物材料的選擇：基材和電極都需要采用導電平板，即ITO導電玻璃或高參雜導電硅片，聚合物材料采用熱塑性聚合物PMMA；

3）壓印及脫模：利用勻膠機在基材上旋涂一層熱塑性聚合物PMMA，其厚度為10um-50um，以10Mpa的壓力P將低表面能處理后的壓印模具壓在基材上，使壓印模具與基材緊密結合，并保證環境溫度在熱塑性聚合物PMMA的玻璃態轉換溫度以上，10-30分鐘后，冷卻至室溫，脫模，在基材上留下聚合物柱狀陣列，聚合物柱狀陣列的深寬比小于5；

4）施加外電場：利用另一塊ITO導電玻璃或高參雜導電硅片作為上電極，與基材組合形成一對平板電極，兩平板電極之間有一層空氣間隙，空氣間隙是柱狀陣列高度的2-4倍，采用直流電源，電壓調節范圍在300-500V，正極連上電極，負極連基材，對形成的PMMA微柱陣列施加外電場；

5）電場誘導再成型：再將環境溫度升至PMMA玻璃態轉化溫度以上，150-200℃，調節電壓大小，使電場力大于PMMA表面張力，持續2-10小時，直至成型過程結束；

6）聚合物的固化：在保持施加電壓不變的情況下，將環境溫度降低到室溫，PMMA固化，最終得到深寬比達到20—30的高深寬比微柱陣列。