[發明專利]含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物及其制備方法與應用

無效

• 申請號: 201310066542.4
• 申請日: 2013-03-04
• 公開（公告）號: CN103172650A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 李斌;楊楊;張黎明;劉星元
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: C07F5/02
• 分類號: C07F5/02;C09B57/00;C09K11/06
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所 22210
• 代理人: 王丹陽

1.含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物，其特征在于，其結構式為式(П)或式(Ш)：

式(П)???????????????????式(Ш)。

2.含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)惰性氣氛保護下，稱取甲酰基取代的三苯胺和2,4-二甲基吡咯并溶于干燥的溶劑中，加入催化劑，室溫避光反應6~10小時，得到紫紅色溶液；

所述的甲酰基取代的三苯胺為雙(4-甲酰苯基)苯胺或者三-(4-甲酰苯基)胺；

(2)稱取氧化劑并溶于干燥的溶劑中，加入到步驟(1)得到的紫紅色溶液中，室溫反應20~40分鐘，得到黑色溶液；

(3)向黑色溶液中加入有機胺和三氟化硼絡合物，反應3~8小時，得到含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物；

所述的三氟化硼絡合物為三氟化硼甲醚絡合物、三氟化硼乙醚絡合物或者三氟化硼丁醚絡合物。

3.根據權利要求2所述的含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物的制備方法，其特征在于，所述的甲酰基取代的三苯胺按以化學計量比反應所需用量稱取，所述的2,4-二甲基吡咯按以化學計量比反應所需用量的1~1.2倍稱取。

4.根據權利要求2所述的含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物的制備方法，其特征在于，所述的溶劑為二氯甲烷或氯仿。

5.根據權利要求2所述的含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物的制備方法，其特征在于，所述的催化劑為三氟乙酸或丙酸。

6.根據權利要求2所述的含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物的制備方法，其特征在于，所述的氧化劑為四氯苯醌或二氯二氰基苯醌。

7.根據權利要求2所述的含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物的制備方法，其特征在于，所述的氧化劑按以化學計量比反應所需用量的1-1.2倍稱取。

8.根據權利要求2所述的含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物的制備方法，其特征在于，所述的有機胺為三乙胺、三異丙基胺或者二異丙基乙胺。

9.含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物作為激光染料的應用，所述的含有三苯胺結構的強熒光氟硼二吡咯化合物的結構式為式(I)，式(П)或式(Ш)：

式(I)

式(П)??????????????????????式(Ш)。