[發明專利]激光離子源

有效

• 申請號: 201310063330.0
• 申請日: 2013-02-28
• 公開（公告）號: CN103295861A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 角谷晶子;林和夫;長內昭宏;佐藤潔和;吉行健;來棲努
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝
• 主分類號: H01J27/24
• 分類號: H01J27/24;H01J27/02
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 陳萍

技術領域

本發明涉及通過激光的照射發生離子的激光離子源。

背景技術

近年來，開發基于高能量碳離子照射的癌癥治療方法，開始使用了生成離子束的離子源的治療。

為了該離子源的性能進一步提高，生成高密度的6價碳離子是不可欠缺的。但是，在例如使用了μ波放電等離子體的離子源中，這一點是無力的，所以期待新的離子源的開發。

另一方面，已知具有生成高密度離子束的能力的激光離子源。該激光離子源是如下裝置：向在滿足規定真空條件的空間內配置的固體靶聚光照射激光，通過該激光的能量而離子化，靜電引出該離子來生成離子束。并且，在專利文獻1及2中，公開了有關激光離子源的技術。

激光離子源的特征在于使用固體靶作為離子的發生源這點。這樣通過使用固體靶，在激光離子源中，能引出高密度的離子電流。

但是，在使激光離子源繼續動作的情況下，需要在激光離子源中補給離子的發生源（即固體靶）。

在例如使用了放電等離子體的離子源中，僅供給氣體作為離子的發生源即可。與之相對，在激光離子源中，作為離子發生源的固體靶的每次補給，都將激光離子源大氣釋放來補給（交換）固體靶是一般的作法。并且，在引用文獻3及4中雖然是面向UV光源的技術，但公開了關于靶的供給的技術。

在先技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2009－037764號公報

專利文獻2：日本專利第3713524號公報

專利文獻3：日本特開2008－098081號公報

專利文獻4：日本特開2011－003887號公報

考慮激光離子源對醫療的應用時，對激光離子源要求長時間的穩定動作，所以要求不破壞配置著作為離子發生源的固體靶（以下，簡記作靶）的空間內的真空條件地進行靶的補給（交換）。

換而言之，在激光離子源中，確立不大破壞真空條件的連續的靶的補給方法是重要的。

但是，如上所述若每次補給靶就將激光離子源大氣釋放，則會破壞配置著靶的空間內的真空條件。

因此，在激光離子源中，需要用于供給靶的特別的功夫。

發明內容

本發明的目的在于提供能不破壞真空條件地進行靶的補給的激光離子源。

根據本發明的1個方式，提供一種激光離子源，具備：真空容器，被真空排氣，被輸送并配置靶，上述靶通過激光的照射發生離子；閥，設置在上述真空容器的側面，向上述真空容器內輸送靶時開放，上述輸送時以外閉塞；靶補給容器，通過上述閥安裝于真空容器，將上述靶能移動地保持，能與上述真空容器獨立地真空排氣；及輸送構件，在關閉了上述閥的狀態下將上述靶補給容器內真空排氣之后，在打開了上述閥的狀態下將保持在上述靶補給容器內的靶輸送到上述真空容器內。

發明的効果如下：

根據本發明，可以得到能不破壞真空條件地進行靶的補給的激光離子源。

附圖說明

圖1是示出本發明的第1實施方式涉及的激光離子源的概略構成的示意圖。

圖2是用于對本實施方式涉及的激光離子源中補給靶時的動作進行說明的側面圖。

圖3是用于對本發明的第2實施方式涉及的激光離子源中補給靶時的動作進行說明的側面圖。

圖4是示出補給用靶及導軌的組合的一個例子的截面圖。

圖5是示出補給用靶及導軌的組合的一個例子的截面圖。

圖6是示出補給用靶及導軌的組合的一個例子的截面圖。

圖7是示出補給用靶及導軌的組合的一個例子的截面圖。

圖8是示出補給用靶及導軌的組合的一個例子的截面圖。

圖9是示出本發明的第3實施方式涉及的激光離子源中使用的靶支架及輸送棒的一個例子的示意圖。

圖10是示出本發明的第4實施方式涉及的激光離子源中使用的將靶固定的固定機構的一個例子的概略圖。

圖號說明

100、400…激光離子源，110…離子生成真空容器，111…靶移動裝置，112、112a、112b…靶，113…靶移動臺，120…靶補給容器，121…輸送棒，130…閥，140、150…真空排氣裝置，160…靶輸送裝置，410…導軌，510…靶支架，520…輸送棒，610…基準面，620…彈性體

具體實施方式

以下，參照附圖，對本發明的各實施方式進行說明。

（第1實施方式）

圖1是示出本發明的第1實施方式涉及的激光離子源的概略構成的示意圖。