[發(fā)明專(zhuān)利]曝光裝置和使用曝光裝置的器件制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310062492.2
• 申請(qǐng)日: 2013-02-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103293873A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鈴木厚志;平野真一
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 羅銀燕

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及曝光裝置和使用曝光裝置的器件制造方法。

背景技術(shù)

曝光裝置是在包含于用于半導(dǎo)體器件、液晶顯示設(shè)備等的制造步驟中的光刻步驟中通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)將原版（original?plate）（中間掩模（reticle）等）的圖案轉(zhuǎn)印到感光基板（例如，晶片、玻璃板等，其表面涂有抗蝕劑層）上的裝置。特別地，作為用于在晶片上安裝半導(dǎo)體器件的方法，存在倒裝芯片安裝方法。在與倒裝芯片安裝方法對(duì)應(yīng)的半導(dǎo)體器件制造處理中，包括在器件（芯片）上形成焊料球的步驟。并且，作為用于形成焊料球的方法，存在電鍍方法。在電鍍方法中，為了使在晶片上形成的導(dǎo)電膜與電鍍?cè)O(shè)備的電極接觸（導(dǎo)通），在導(dǎo)電膜上形成的與電極接觸的抗蝕劑的一部分需要被提前剝離。例如，當(dāng)抗蝕劑為負(fù)抗蝕劑時(shí)，防止曝光光在通過(guò)曝光裝置曝光時(shí)照射晶片的外周區(qū)域。為了實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，美國(guó)專(zhuān)利No.6680774公開(kāi)了如下裝置，在該裝置中用于在曝光期間對(duì)外周區(qū)域遮光的遮光板被布置在晶片的表面之上。并且，日本專(zhuān)利公開(kāi)No.2011-233781公開(kāi)了如下光刻裝置，在該光刻裝置中遮光板被布置在與晶片面光學(xué)共軛的面上而不是晶片上。在日本專(zhuān)利公開(kāi)No.2011-233781中公開(kāi)的光刻裝置中，在其邊緣處具有圓弧的遮光板在位置上受第一驅(qū)動(dòng)單元和第二驅(qū)動(dòng)單元控制，以限定與位于外周區(qū)域中的周邊射擊（shot）區(qū)域?qū)?yīng)的曝光區(qū)域，所述第一驅(qū)動(dòng)單元關(guān)于與照明系統(tǒng)的光軸平行的軸旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng)遮光板，所述第二驅(qū)動(dòng)單元在與光軸垂直的面內(nèi)直線地驅(qū)動(dòng)遮光板。借助于定位控制，從晶片的外周到被遮光的外周區(qū)域的邊界線的距離（遮光寬度）對(duì)于各周邊射擊區(qū)域變得恒定。

然而，當(dāng)遮光板如在美國(guó)專(zhuān)利No.6680774中公開(kāi)的那樣被布置在晶片的表面之上時(shí)，遮光板需要在各晶片調(diào)換時(shí)退避，這在用于設(shè)置驅(qū)動(dòng)遮光板的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的間隔和處理量方面是不希望的。另一方面，即使當(dāng)遮光板如在日本專(zhuān)利公開(kāi)No.2011-233781中公開(kāi)的那樣被布置在與晶片面光學(xué)共軛的面上時(shí)，用于驅(qū)動(dòng)遮光板的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)仍被布置在裝置內(nèi)。例如，為了通過(guò)諸如旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)和直線驅(qū)動(dòng)之類(lèi)的雙軸驅(qū)動(dòng)將周邊射擊區(qū)域上的任何希望位置遮光，需要在用于關(guān)于光軸旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng)遮光板的第一驅(qū)動(dòng)單元之上安裝用于直線地驅(qū)動(dòng)遮光板的第二驅(qū)動(dòng)單元。因此，當(dāng)考慮在驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)內(nèi)直接測(cè)量遮光板的位置這一事實(shí)時(shí)，變得難以設(shè)置傳感器或安裝部分。另外，從優(yōu)化驅(qū)動(dòng)量來(lái)提高處理量的觀點(diǎn)看，第一驅(qū)動(dòng)單元的旋轉(zhuǎn)中心與光軸匹配是優(yōu)選的。此時(shí)，由于用作光路的旋轉(zhuǎn)中心附近的遮光板的布置的限制，需要從第一驅(qū)動(dòng)單元執(zhí)行向遮光板的旋轉(zhuǎn)傳送。然而，通過(guò)齒輪或傳送帶等的旋轉(zhuǎn)傳送會(huì)由于磨損等導(dǎo)致機(jī)械劣化。這樣的機(jī)械劣化直接影響遮光的定位精度。特別地，由光刻裝置的長(zhǎng)期使用導(dǎo)致的機(jī)械劣化會(huì)導(dǎo)致晶片上的遮光位置的改變，從而對(duì)于產(chǎn)品自身導(dǎo)致不利影響。為了避免這樣的情況，設(shè)想通過(guò)周期性地曝光和顯影測(cè)試晶片來(lái)檢查遮光的定位精度，但這需要一定的裝置停機(jī)時(shí)間和檢查工時(shí)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供有利于在基板上形成不被曝光光照射的特定區(qū)域的曝光裝置。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種曝光裝置，所述曝光裝置用從照明系統(tǒng)發(fā)射的光照射在原版上形成的圖案以由此經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)在基板上曝光所述圖案的圖像，所述曝光裝置包括：遮光板，所述遮光板被布置在與用作照明系統(tǒng)中的投影光學(xué)系統(tǒng)的物體面的基板面共軛的面上，在邊緣處包括與基板的外周的內(nèi)側(cè)的圓形邊界線重疊的圓弧，所述圓形邊界線限定在其上形成基板上的圖像的區(qū)域，并且屏蔽光以防止光入射到基板上的所述圓形邊界線外部的外周區(qū)域；第一驅(qū)動(dòng)單元，所述第一驅(qū)動(dòng)單元關(guān)于與照明系統(tǒng)的光軸平行的軸旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng)所述遮光板；第二驅(qū)動(dòng)單元，所述第二驅(qū)動(dòng)單元在與所述光軸垂直的面內(nèi)直線地驅(qū)動(dòng)所述遮光板；檢測(cè)單元，所述檢測(cè)單元檢測(cè)通過(guò)所述遮光板遮光的遮光位置；和控制單元，所述控制單元存儲(chǔ)基準(zhǔn)時(shí)間點(diǎn)處的遮光位置以及在所述基準(zhǔn)時(shí)間點(diǎn)之后改變所述遮光板時(shí)的所述遮光板的改變前后的遮光位置，并基于在改變所述遮光板之后的任意時(shí)間點(diǎn)處由所述檢測(cè)單元檢測(cè)的遮光位置、所述基準(zhǔn)時(shí)間點(diǎn)處的遮光位置以及改變所述遮光板前后的遮光位置之間的差值來(lái)計(jì)算遮光位置的變化量。

根據(jù)本發(fā)明，可以提供有利于在基板上形成不被曝光光照射的特定區(qū)域的曝光裝置。

參照附圖從示例性實(shí)施例的以下描述中，本發(fā)明的其它特征將變得清晰。

附圖說(shuō)明

圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的曝光裝置的配置的示圖。

圖2是示出遮光機(jī)構(gòu)的配置的示圖。

圖3是示出晶片上的曝光區(qū)域和遮光區(qū)域的示圖。