[發(fā)明專利]互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310062231.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-02-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103094255A | 公開(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尹彬鋒;錢燕妮;李瀚超 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/544 | 分類號(hào): | H01L23/544 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 陸花 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 互連 遷移 測(cè)試 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
待測(cè)結(jié)構(gòu);
引線結(jié)構(gòu),包括第一引線以及第二引線;
n層自上至下依次層疊的導(dǎo)電結(jié)構(gòu),位于所述待測(cè)結(jié)構(gòu)和所述引線結(jié)構(gòu)的下層,每一層所述導(dǎo)電結(jié)構(gòu)包括第一通孔結(jié)構(gòu)、第一連接結(jié)構(gòu)、第二通孔結(jié)構(gòu)、第三通孔結(jié)構(gòu)、第二連接結(jié)構(gòu)以及第四通孔結(jié)構(gòu),其中,n為大于等于2的整數(shù),所述引線結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電結(jié)構(gòu)用于為所述待測(cè)結(jié)構(gòu)提供電流;以及
電介質(zhì),所述待測(cè)結(jié)構(gòu)、第一引線、第二引線、每一層的第一通孔結(jié)構(gòu)、第一連接結(jié)構(gòu)、第二通孔結(jié)構(gòu)、第三通孔結(jié)構(gòu)、第二連接結(jié)構(gòu)以及第四通孔結(jié)構(gòu)通過(guò)所述電介質(zhì)絕緣間隔。
2.如權(quán)利要求1所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一引線通過(guò)第一層第一通孔結(jié)構(gòu)與第一層第一連接結(jié)構(gòu)的一端連接,所述第一層第一連接結(jié)構(gòu)的另一端通過(guò)第一層第二通孔結(jié)構(gòu)與所述待測(cè)結(jié)構(gòu)的一端連接,所述待測(cè)結(jié)構(gòu)的另一端通過(guò)第一層第三通孔結(jié)構(gòu)與第一層第二連接結(jié)構(gòu)的一端連接,所述第一層第二連接結(jié)構(gòu)的另一端通過(guò)第一層第四通孔結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)與所述第二引線連接;所述第m-1層第一連接結(jié)構(gòu)的一端通過(guò)第m層第一通孔結(jié)構(gòu)與第m層第一連接結(jié)構(gòu)的一端連接,所述第m層第一連接結(jié)構(gòu)的另一端通過(guò)第m層第二通孔結(jié)構(gòu)與所述第m-1層第一連接結(jié)構(gòu)的另一端連接,所述第m-1層第二連接結(jié)構(gòu)的另一端通過(guò)第m層第三通孔結(jié)構(gòu)與第m層第二連接結(jié)構(gòu)的一端連接,所述第m層第二連接結(jié)構(gòu)的另一端通過(guò)第m層第四通孔結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)與所述第m-1層第一連接結(jié)構(gòu)的一端連接,其中,2≤m≤n。
3.如權(quán)利要求1或2所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一層第二通孔結(jié)構(gòu)和所述第一層第三通孔結(jié)構(gòu)均為一個(gè)通孔。
4.如權(quán)利要求1或2所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一層第一通孔結(jié)構(gòu)、所述第一層第四通孔結(jié)構(gòu)、第m層第一通孔結(jié)構(gòu)、第m層第二通孔結(jié)構(gòu)、第m層第三通孔結(jié)構(gòu)、第m層第四通孔結(jié)構(gòu)均為兩個(gè)以上并排排列的通孔。
5.如權(quán)利要求1所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述待測(cè)結(jié)構(gòu)和所述引線結(jié)構(gòu)位于同一層。
6.如權(quán)利要求1所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一引線和第二引線均為塊狀。
7.如權(quán)利要求6所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一引線的寬度大于等于所述待測(cè)結(jié)構(gòu)的寬度,所述第二引線的寬度大于等于所述待測(cè)結(jié)構(gòu)的寬度。
8.如權(quán)利要求1所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,每一層所述導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的第一連接結(jié)構(gòu)和第二連接結(jié)構(gòu)位于同一層。
9.如權(quán)利要求1所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一連接結(jié)構(gòu)和第二連接結(jié)構(gòu)均為條形。
10.如權(quán)利要求9所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一連接結(jié)構(gòu)的寬度大于等于所述待測(cè)結(jié)構(gòu)的寬度,所述第二連接結(jié)構(gòu)的寬度大于等于所述待測(cè)結(jié)構(gòu)的寬度。
11.如權(quán)利要求1所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述待測(cè)結(jié)構(gòu)的材料為金屬,所述引線結(jié)構(gòu)的材料為金屬,導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的材料為金屬。
12.如權(quán)利要求1所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述電介質(zhì)的材料具有小于等于4.0的介電常數(shù)。
13.如權(quán)利要求12所述的互連電遷移的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,所述電介質(zhì)的材料為二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅或摻碳的氧化硅中的一種或幾種的組合。
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