[發明專利]液晶透鏡設備和圖像顯示設備無效
| 申請號: | 201310062100.2 | 申請日: | 2013-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN103365026A | 公開(公告)日: | 2013-10-23 |
| 發明(設計)人: | 岐津裕子;高木亞矢子;上原伸一;柏木正子;桃井芳晴;馬場雅裕 | 申請(專利權)人: | 株式會社東芝 |
| 主分類號: | G02F1/29 | 分類號: | G02F1/29;G02F1/1343;G02F1/1337;G02B27/26 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 錢孟清 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶 透鏡 設備 圖像 顯示 | ||
1.一種圖像顯示設備,包括:
液晶透鏡設備,所述液晶透鏡設備包括液晶光學元件單元,所述液晶光學元件單元包括:
第一基板單元,所述第一基板單元包括:
具有第一主表面的第一基板;以及
設置在所述第一主表面上以沿著第一方向延伸的多個第一電極,
所述第一電極排列在與所述第一方向不平行的方向上,
第二基板單元,所述第二基板單元包括:
具有與所述第一主表面相對的第二主表面的第二基板;以及
設置在所述第二主表面上的對電極;以及
設置在所述第一基板單元和所述第二基板單元之間的液晶層,所述液晶層具有第一取向方向和第二取向方向,所述第一取向方向是在投影到所述第一主表面上時的所述第一基板單元上的液晶分子的長軸方向,所述第一取向方向與所述第一方向正交,所述第二取向方向是在投影到所述第一主表面上時的所述第二基板單元上的液晶分子的長軸方向,所述液晶層具有在所述第一取向方向和所述第二取向方向之間沿著所述第一主表面的法向軸扭轉大于或等于5度且小于或等于45度的角的取向;以及
圖像顯示單元,所述圖像顯示單元包括顯示單元,所述第二基板單元設置在所述第一基板單元和所述顯示單元之間,所述顯示單元被配置成使得具有與所述第二取向方向平行的偏光軸的偏光的圖像光入射到所述液晶光學元件單元上。
2.如權利要求1所述的設備,其特征在于,所述對電極包括狹縫。
3.如權利要求2所述的設備,其特征在于,所述狹縫在與所述第二取向方向垂直的方向上延伸。
4.如權利要求2所述的設備,其特征在于,所述狹縫劃分的所述對電極的一部分的寬度比所述第一電極的寬度寬。
5.如權利要求1所述的設備,其特征在于,還包括電連接到所述第一電極和所述對電極的控制單元,所述控制單元被配置成通過控制所述第一電極的電位和所述對電極的電位在所述液晶層中形成折射率分布。
6.如權利要求1所述的設備,其特征在于,
所述第一基板單元還包括設置在所述第一電極上的第一取向膜,以及
所述第二基板單元還包括設置在所述對電極上的第二取向膜。
7.如權利要求1所述的設備,其特征在于,
所述液晶層具有大于或等于0度且小于或等于30度的預傾斜角。
8.如權利要求1所述的設備,其特征在于,
所述第一基板、所述第二基板、所述第一電極、以及所述對電極對所述圖像光是透明的。
9.如權利要求8所述的設備,其特征在于,
所述第一電極和所述對電極包括氧化物,所述氧化物包含從由In、Sn、Zn和Ti組成的組中選擇的至少一種元素。
10.如權利要求1所述的設備,其特征在于,
所述第一方向與設置在所述顯示單元中的像素的取向方向之間的角大于或等于7度且小于或等于15度。
11.如權利要求1所述的設備,其特征在于,
所述顯示單元包括多個像素,
所述像素的取向方向垂直于所述偏光軸或者平行于所述偏光軸。
12.如權利要求1所述的設備,其特征在于,
所述顯示單元包括第一偏光層、第二偏光層、以及設置在所述第一偏光層和所述第二偏光層之間的顯示液晶層。
13.如權利要求1所述的設備,其特征在于,
所述第二取向方向平行于或者垂直于所述液晶光學元件單元的外形的一側面的延伸方向,所述側面平行于所述第一主表面。
14.如權利要求1所述的設備,其特征在于,
所述第一方向與所述液晶光學元件單元的外形的一側面的延伸方向之間的角大于或等于5度且小于或等于45度或者大于或者等于45度且小于或等于85度,所述側面平行于所述第一主表面。
15.如權利要求1所述的設備,其特征在于,
所述第二方向與所述液晶光學元件單元的外形的一側面的延伸方向之間的角大于或等于5度且小于或等于45度或者大于或者等于45度且小于或等于85度,所述第二方向平行于所述第一主表面且垂直于所述第一方向,所述側面平行于所述第一主表面。
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